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| 應用領域 | 綜合 |
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產品簡介
詳細介紹
BMF nanoArch® P130 系統是可以實現高精度微尺度3D打印的設備系統，它采用的是面投影微立體光刻（PμSL：Projection Micro Stereolithography）技術。該技術使用高精密紫外光刻投影系統，將需打印圖案投影到樹脂槽液面，在液面固化樹脂并快速微立體成型，從數字模型直接加工三維復雜的模型和樣件，完成樣品的制作。該技術具備成型效率高、打印精度高等突出優勢，被認為是目前有前景的微納加工技術之一。
科研級3D打印系統
nanoArch® P130是科研級3D打印系統，擁有2μm的超高打印精度和5μm的超低打印層厚，從而實現超高精度的樣件制作，非常適合高校和研究機構用于科學研究及應用創新。
BMF nanoArch® P130 系統性能：
光源 UV-LED(405nm) | 打印材料 光敏樹脂 | 光學精度 2μm |
XY打印精度 2μm~10μm | 打印層厚 5μm~20μm | 打印樣品尺寸 3.84mm(L)×2.16mm(W)×10mm(H)① |
打印文件格式 STL | 系統外形尺寸 1720mm(L)×750mm(W)×1820(H)mm3 | 重量 650kg |
電氣要求 200~240V AC，50/60HZ，3KW | 其他要求 部分工藝可選配加速模塊及涂層模塊 | 設備功率 2000W |
打印材料
通用型
丙烯酸類光敏樹脂，比如HDDA，PEGDA等。
個性化
高強度硬性樹脂、納米顆粒摻雜樹脂、生物醫用樹脂等。
系統特點:
高精度
（XY打印精度高達2μm）
（XY打印精度高達2μm）
低層厚
（5μm~20μm的打印層厚效果對比）
（5μm~20μm的打印層厚效果對比）
微尺度大幅面的打印能力
光學監控系統，自動對焦功能
配置氣浮平臺，提高打印質量
優良的光源穩定性
配備完善的樣品后處理組件 包括抽真空及紫外后固化
應用案例:
