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卷對卷薄膜濺射系統
卷對卷薄膜濺射系統裝置在真空狀態中對PET Film，以ITO或Metal Coating的設備, Heating, Plasma Etching, Sputt...
型號： KaRoll RT... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 14:04:28 對比

鍍膜卷對卷薄膜濺射系統韓國真空/IOKOVA KaRoll RTR1C
卷對卷薄膜濺射系統
卷對卷薄膜濺射系統是在真空狀態下用于micro phone的厚度為4u Film的Gold(AU)做Sputtering的設備.
型號： Roll to R... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 14:02:52 對比

鍍膜濺射卷對卷薄膜濺射系統
部件鍍膜設備
部件鍍膜設備是在真空狀態下在產品外部涂層非導電體的Coating設備，由真空內產品做著自傳，公轉,并能保持一定的膜厚度.
型號： KaRon 設備所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 14:01:07 對比

鍍膜
部件鍍膜設備
它實現高大量生產性的高真空基本Sputter - 可以生產1Batch/900EA以上的產品，以沉積及Sputter工序的*化，提升EMI莫品質 - 證明“沉積...
型號： HVD-1800 ... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 13:53:36 對比

鍍膜 HVD-1800 Series 韓國真空/IOKOVA
部件鍍膜設備
部件鍍膜設備實現高大量生產率的高真空基礎In-line Sputter - 1Carrier/20Sheet(A4 Size)產品 Loading可以，以In-...
型號： For Half ... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 13:34:58 對比

鍍膜 For Half Mirror Coating 韓國真空/IOKOVA 部件鍍膜設備
部件鍍膜設備
部件鍍膜設備KaLine 8V是在真空狀態中向產品外部涂層非導體的設備,在真空內產品做自空傳,由能保持一定的膜厚度構成的.
型號： KaLine 8V 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 13:31:17 對比

鍍膜韓國真空/IOKOVA 部件鍍膜設備韓國真空/IOKOVA
薄膜沉積PVD設備
Kurt J. Lesker Company PVD-BATCH DRUM系列由兩種標準尺寸（PVD 200 和 PVD 500）組成，可配置為水平或垂直配置。...
型號： PVD-BATCH... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 13:05:28 對比

PVD-BATCH DRUM 薄膜沉積PVD設備 KURT.J.LESKER
有機薄膜沉積和金屬化系統
概述針對有機材料沉積進行了優化多達 12 個 LTE 信號源;1cc、10cc或35cc容量主體與摻雜劑比 1000：1多達 4 個熱蒸發源基板快門自動基板、掩...
型號： Super-SPE... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 12:58:02 對比

薄膜沉積 KURT.J.LESKER Super-SPECTROS™ 200 有機薄膜沉積和金屬化系統
有機薄膜沉積和金屬化系統
Kurt J. Lesker Company 的有機薄膜沉積和金屬化系統和金屬 SPECTROS™ 150 是基于主力 SPECTROS 平臺的下一...
型號： SPECTROS&... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 12:55:59 對比

薄膜沉積 KURT.J.LESKER SPECTROS™ 150 有機薄膜沉積和金屬化系統
沉積和金屬化系統
Kurt J. Lesker Company Mini SPECTROS™是基于主力SPECTROS平臺的下一代薄膜沉積系統。SPECTROS平臺在...
型號： Mini SPEC... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 12:54:11 對比

沉積和金屬化系統 KURT.J.LESKER Mini SPECTROS
濺射或熱蒸發薄膜沉積系統
Kurt J. Lesker Company® NANO 36™ 濺射或熱蒸發薄膜沉積系統是我們優化的入門級沉積系統。我們的腔室設計特別適...
型號： NANO 36&t... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 12:49:21 對比

薄膜沉積 NANO 36™KURT.J.LESKER 濺射或熱蒸發薄膜沉積系統
電子束蒸發鍍膜設備
電子束蒸發鍍膜設備CMS系列極其強大的優良研究工具設計用于適應特定的薄膜應用，如 GMR、CMS、半導體、納米級器件、光子學和光伏系統設計可以配置為真正的超高真...
型號： CMS系列所在地：美國參考價：面議更新時間：2025/6/6 12:45:48 對比

鍍膜 KURT.J.LESKER CMS系列電子束蒸發鍍膜設備
磁控濺射鍍膜設備
Kurt J. Lesker Company LAB Line UHV 磁控濺射鍍膜設備專為磁控濺射沉積應用而設計。為滿足 UHV 濺射工藝需求而定制的腔室設計...
型號： LAB Line 所在地：美國參考價：面議更新時間：2025/6/6 12:43:37 對比

磁控濺射磁控濺射鍍膜設備 LAB Line KURT.J.LESKER
多功能濺射、電子束和熱蒸發沉積平臺
Kurt J. Lesker Company PRO Line PVD 200 多功能濺射、電子束和熱蒸發沉積平臺是一種模塊化、功能齊全的薄膜沉積系統，可實現 ...
型號： PRO Line ... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 12:41:17 對比

物理氣相沉積 PRO Line PVD 200 KURT.J.LESKER
多功能濺射、電子束和熱蒸發沉積平臺
Kurt J. Lesker Company PRO Line PVD 75 是基于主力 PVD 75多功能濺射、電子束和熱蒸發沉積平臺的下一代薄膜沉積系統。P...
型號： PRO Line ... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2025/6/6 12:28:40 對比

PVD 濺射電子束熱蒸發沉積
物理氣相沉積PVD
Veeco 的單靶點 NEXUS PVDi 物理氣相沉積系統為各種薄膜沉積應用提供了最大的靈活性。NEXUS PVD 的加工精度為 200 毫米，具有先進的工藝...
型號： NEXUS 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 12:26:11 對比

物理氣相沉積 PVD 薄膜沉積
等離子增強原子層沉積PEALD
我們的 Fiji® 系列是一種模塊化、高真空熱原子層沉積系統，采用靈活的架構和多種前驅體和等離子體氣體配置，可適應各種沉積模式。Fiji G2 是下一...
型號： Fiji 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 12:24:18 對比

等離子增強原子層沉積 PEALD 薄膜沉積
熱蒸發薄膜沉積系統
Kurt J. Lesker Company® NANO 36™ 熱蒸發薄膜沉積系統是我們優化的入門級沉積系統。我們的腔室設計特別適合手套...
型號： NANO 36&t... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 12:20:13 對比

PVD 熱蒸發薄膜沉積
原子層沉積ALD
用于高級研究的先進能力Veeco 是原子層沉積（ALD）系統供應商，為研究和工業提供全面的服務和多功能的交鑰匙系統，這些系統易于訪問、經濟實惠且精確到原子尺...
型號： Savannah 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 12:16:29 對比

原子層沉積 ALD 薄膜沉積
原子層沉積ALD
Phoenix®系統經過精心設計，可在從中試生產到工業級制造的任何制造環境中實現高吞吐量和最長的正常運行時間。技術人員和研究人員依靠 Phoenix&...
型號： Phoenix 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 12:07:53 對比

原子層沉積 ALD 薄膜沉積

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