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部件鍍膜設備
部件鍍膜設備實現高大量生產率的高真空基礎In-line Sputter
型號： Batch Typ... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 13:55:15 對比

鍍膜部件鍍膜設備 Batch Type
薄膜沉積鍍膜系統
薄膜沉積鍍膜系統Automotive Lamp Reflector是為了在汽車用HEAD LAMP部分提高AL的附著性,用Plasma,AL Sputter,C...
型號： Automotiv... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 13:15:09 對比

CVD Automotive Lamp Reflector 韓國真空/IOKOVA
原子層沉積ALD
Kurt J. Lesker Company （KJLC） ALD150LE™是我們但極其靈活的原子層沉積（ALD）系統，專為入門級到中級用戶而...
型號： ALD-150LE... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 13:03:33 對比

ALD-150LE™原子層沉積ALD KURT.J.LESKER
原子層沉積ALD
Kurt J. Lesker Company （KJLC） ALD150LX™是一種原子層沉積ALD 系統，專為高級研發（R&D）應用而設計。創...
型號： ALD-150LX... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 13:01:42 對比

原子層沉積ALD ALD-150LX™KURT.J.LESKER
金屬有機化學氣相沉積MOCVD
Veeco 的 EPIK® 868 是 LED 業界最高性能的金屬有機物化學氣相沉積系統MOCVD，可實現出色的均勻性和可重復性，以及低缺陷率。Vee...
型號： TurboDisc... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2025/6/6 11:20:01 對比

金屬有機化學氣相沉積 MOCVD
金屬化學氣相沉積MOCVD
用于 5G、光子學和 CMOS 的 Propel 300mm GaN MOCVD 系統全自動單晶圓簇系統可在 300 毫米基板上生產 5G 射頻、光子學和高級 ...
型號： Propel 30... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2025/6/6 11:07:25 對比

金屬化學氣相沉積 MOCVD
金屬有機化學氣相沉積
Propel HVM GaN MOCVD 系統，用于電源、5G 射頻和光子學，單晶圓反應器技術為電源、5G 射頻和光子學應用提供高效、高質量的氮化鎵基器件
型號： Propel HV... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2025/6/6 11:03:27 對比

金屬有機化學氣相沉積 MOCVD
原子層沉積ALD
用于電池、太陽能和柔性電子產品的功能性原子層沉積涂層。 Genesis ALD 是涂布任何卷筒格式基材以及多種功能應用的理想選擇。
型號： Genesis A... 所在地：芬蘭參考價：面議更新時間：2025/6/6 10:59:14 對比

ALD Beneq 原子層沉積半導體
原子層沉積ALD
Beneq TFS 200 是有史以來最靈活的原子層沉積研究平臺，專為學術研究和企業研發而設計。Beneq TFS 200 經過專門設計，可最大限度地減少多用戶...
型號： Beneq TFS... 所在地：芬蘭參考價：面議更新時間：2025/6/6 10:53:35 對比

Beneq ALD 原子層沉積半導體
原子層沉積ALD
Beneq P1500 是我們最大的原子層沉積系統，專門用于涂覆大型板材和復雜零件。它還用于為較小組件的批次提供更高的吞吐量。我們的客戶將 P1500 用于大直...
型號： Beneq P15... 所在地：芬蘭參考價：面議更新時間：2025/6/6 10:49:10 對比

ALD 原子層沉積半導體 Beneq
原子層沉積ALD
Beneq P800 專門設計用于涂覆復雜形狀的大零件或大批量的小零件。我們的客戶將 P800 用于光學鍍膜、半導體設備部件的防腐鍍膜，以及在玻璃或金屬板上使用...
型號： Beneq P80... 所在地：芬蘭參考價：面議更新時間：2025/6/6 10:40:45 對比

ALD 原子層沉積
原子層沉積ALD
Beneq P400A 專為以優化的批量大小涂覆不同類型的基材而設計 - 足夠大以提供顯著的容量，但又足夠小以在批次和較短的循環時間內保持出色的均勻性。我們的客...
型號： Beneq P40... 所在地：芬蘭參考價：面議更新時間：2025/6/6 10:38:45 對比

原子層沉積 ALD 半導體
等離子體沉積ALD
等離子體沉積ALD AD-230LP是一種原子層沉積（ALD）系統，能夠在原子水平上控制薄膜厚度。有機金屬原料和氧化劑交替供給反應室，僅通過表面反應進行薄膜沉積...
型號： AD-230LP 所在地：日本參考價：面議更新時間：2025/6/6 9:38:34 對比

SAMCO 等離子體沉積等離子體沉積ALD AD-230LP
ICP沉積系統
SENTECH SIPAR ICP沉積系統是為使用靈活的系統架構的各種沉積模式和工藝開發和設計的。該工具包括 ICP 等離子體源 PTSA、一個動態溫控基板電極...
型號： SENTECH S... 所在地：德國參考價：面議更新時間：2025/6/6 9:29:05 對比

沉積系統 ICP ALD PECVD SENTECH
開蓋等離子體沉積系統PECVD
SENTECH Depolab 200 是基本的等離子體增強化學氣相沉積（PECVD）系統，適用于沉積用于蝕刻掩模、膜和電隔離膜以及許多其他材料的介電膜。
型號： SENTECH D... 所在地：德國參考價：面議更新時間：2025/6/6 9:24:35 對比

PECVD SENTECH 化學氣相沉積
等離子增強化學氣相沉積PECVD
提供大面積刻蝕與沉積的量產型解決方案，LED工業要求高產量，高器件質量和低購置成本。 PlasmaPro 1000更好地解決了這些需求。
型號： PlasmaPro... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2025/6/6 7:39:32 對比

牛津 PECVD
等離子增強化學氣相沉積PECVD
PlasmaPro 80是一種結構緊湊且使用方便的小型直開式系統，可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。它易于放置，便于使用，且能確保工藝性能。直開式設計可實現快...
型號： PlasmaPro... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 7:37:08 對比

牛津 PECVD
等離子增強化學氣相沉積PECVD
PlasmaPro 800 為大批量晶圓和 300mm 晶圓的等離子增強化學氣相沉積（PECVD）工藝提供了靈活的解決方案，它采用了緊湊的開放式裝載系統。可...
型號： PlasmaPro... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 7:35:07 對比

牛津 PECVD 等離子增強
等離子增強化學氣相沉積PECVD
設計PECVD工藝模式的目的是要在控制薄膜性能，如折射率、應力、電學特性和濕法化學刻蝕速率的前提下，生產均勻性好且沉積速率高的薄膜。PlasmaPro 100 ...
型號： PlasmaPro... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 7:33:35 對比

PECVD 化學氣相沉積牛津
電感耦合等離子體化學氣相沉積ICPCVD
該ICPCVD工藝模塊設計用于在低生長溫度下生產高質量的薄膜，通過高密度遠程等離子體實現，從而實現優秀的薄膜質量，同時減少基板損傷。
型號： PlasmaPro... 所在地：英國參考價：面議更新時間：2025/6/6 7:29:37 對比

ICPCVD 薄膜沉積等離子體低溫生長

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