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深圳市矢量科學儀器有限公司

  • CMP

    G&P旗下的GNP POLI-PCB系列CMP主要運用于研發，操作簡單，成本低。
    型號： GNP POLI-... 所在地：韓國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 12:21:54 對比

  • CMP

    GnP POLI-610專為藍寶石等復合晶圓的CMP工藝開發而設計。特別是該系統對于晶圓工藝開發具有較低的擁有成本，材料評估和生產前運行。
    型號： GNP POLI-... 所在地：韓國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 12:18:37 對比

  • CMP后清洗機

    GNP CLEANER-412S型CMP后清洗機集成了兩個雙刷站，設計緊湊，占地面積小，可清洗(4“~12“)晶圓。
    型號： GNP CEANE... 所在地：韓國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 12:14:15 對比

  • CMP后清洗機

    GNP CLEANER-412R型CMP后清洗機集成了兩個雙刷站，設計緊湊，占地面積小，可清洗(4“~12“)晶圓。
    型號： GNP CLEAN... 所在地：韓國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 12:11:54 對比

  • CMP后清洗機

    GNP CLEANER-428L型CMP后清洗機集成了兩個雙刷站，設計緊湊，占地面積小，可清洗(4“~8“)晶圓。
    型號： GNP CLEAN... 所在地：韓國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 12:09:28 對比

  • CMP后清洗機

    GNP CLEANER-812L型CMP后清洗機集成了兩個雙刷站，設計緊湊，占地面積小，可清洗(8“~12")晶圓。
    型號： GNP CLEAN... 所在地：韓國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 12:06:03 對比

  • CMP

    GNP POLI-762是高通用性12英寸(300mm) CMP工藝而開發，也為先進晶圓制造商和耗材供應商設計的。GNP POLI-500廣泛用于耗材供應商，襯...
    型號： GNP POLI系... 所在地：韓國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 12:01:43 對比

  • 全自動CMP晶圓清洗一體機

    韓國G&P的全自動CMP晶圓清洗一體機是一臺可以自動拋光和清潔300毫米晶圓的機器。
    型號： GNP GPC-3... 所在地：韓國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 11:50:12 對比

  • 晶圓濕法清洗工作臺

    WaferStorm平臺是先進封裝、MEMS、射頻、數據存儲和光子學市場中許多關鍵溶劑型工藝的行業選擇。有 2 個版本——手動加載 （ML） 和 3300 系列...
    型號： 3300系列 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 11:44:48 對比

  • 真空計

    皮拉尼真空計，可以測量從大氣壓到5×10-2Pa的廣泛的壓力范圍該真空計從傳統的控制器（傳感器單元）中除去操作·顯示部，最大限度凝縮精簡功能...
    型號： SW系列 所在地：日本 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 11:14:39 對比

  • 真空泵

    VS系列是旋片式（單級）的油旋轉真空泵。可搭配羅茨泵獲得更大的排氣量。內置油霧過濾器和回油裝置，排氣性能長期穩定。此外，設計上還考慮到了油和濾芯更換等維保的便宜...
    型號： VS系列 所在地：日本 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 11:11:17 對比

  • 批量晶圓處理等離子系統

    批量晶圓處理等離子系統采用模塊化設計，其模塊化控制系統使用最新一代處理器，基于 Linux 平臺作為操作系統，以及圖形用戶界面 (GUI)。因此，可支持手動和全...
    型號： GIGAbatch 所在地：美國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 10:43:06 對比

  • 條形等離子清潔系統

    80 Plus 條形等離子清潔系統專為半導體加工而開發，可支持手動及自動操作，兩種操作方式均簡單易用。該系統可以配備或不配備裝卸站；此外，每個裝卸站都可支持不同...
    型號： 80 Plus 所在地：美國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 10:27:06 對比

  • 大氣式等離子清潔系統

    PlasmaPen™ 是PVA TePla的大氣式等離子清潔系統，可滿足各種表面處理要求，如表面清潔及表面活化。
    型號： PlasmaPen... 所在地：美國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 10:25:12 對比

  • LSA 201 環境控制激光尖峰退火設備

    Veeco 的 LSA201 激光尖峰退火 （LSA） 系統具有與 LSA101 相同的架構，可在掃描激光系統中實現全晶圓環境控制。該微室在于它不需要使用真空負...
    型號： 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 10:23:08 對比

  • LSA 101 激光尖峰退火設備

    LSA 101 激光尖峰退火設備 系統安裝的 IDM 和晶圓代工廠，是大批量制造 40nm 至 140nm 節點的先進邏輯器件的技術。LSA 101 的掃描技術...
    型號： 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 10:20:44 對比

  • IVG-2040/3040 --全自動單軸減薄機

    全自動單軸減薄機是一款高精度、高效率的研削設備，專為半導體制造、硅片加工、光學材料處理及薄膜材料制備等領域設計。
    型號： 所在地：北京市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 9:58:49 對比

  • 快速退火爐

    由德國UNITEMP研發的用于 200 毫米（8 英寸）晶圓尺寸或 M10 182 x 182 毫米太陽能硅片的快速退火爐RTP-200。
    型號： RTP-200 所在地：德國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 9:30:56 對比

  • 快速退火爐

    由德國UNITEMP研發符合高真空標準的快速退火爐，升溫速率高達 75 K/sec。，升溫速率高達 150 K/sec。主要特點：良好的溫度均勻性、精確控制的斜...
    型號： RTP-150-H... 所在地：德國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 9:26:46 對比

  • 快速退火爐

    由德國UNITEMP研發的真空快速退火爐RTP-150-EP，升溫速率高達 150 K/sec。主要特點：良好的溫度均勻性、精確控制的斜坡上升速率和快速斜坡下降...
    型號： RTP-150-E... 所在地：德國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 9:19:55 對比
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