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SHINKO SEIKI神港--電弧絲式離子鍍裝置（AF-IP裝置）
這是一種新型離子鍍設備，利用PVD實現(xiàn)了過去只能利用CVD才能實現(xiàn)商業(yè)化的膜類型（厚氧化膜、碳化膜等） 。
“電弧燈絲型離子鍍裝置"通過蒸發(fā)粒子與蒸發(fā)源上的熱電子碰撞，有效地使蒸發(fā)粒子離子化。此外，
通過引入的氣體與電離的蒸發(fā)顆粒之間的反應，
可以形成各種致密且高粘附性的反應膜(氮化物膜、氧化物膜、碳化物膜、碳氮化物膜) 。
現(xiàn)在可以形成厚的氧化膜，這對于傳統(tǒng)的電弧放電離子鍍設備來說是困難的。可以使用電弧絲型離子鍍設備形成的新型PVD薄膜預計將用于
精密模具和半導體制造設備零件等許多應用。
對應膜種類
氧化膜 氧化釔 (Y2O3) *新開發(fā)膜
氧化鋁 (Al2O3) *新開發(fā)膜
碳化物膜 SiC *新開發(fā)膜
氮化物膜 TiN
CrN
其他各種金屬及反應膜
