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神港精機SHINKO SEIKI --ICP金屬蝕刻設備
這是以納米壓印模具用ICP蝕刻系統“SERIO"的基本結構為基礎，
針對金屬定制了腔室內部結構和氣體系統的最新蝕刻系統。
兼容最新的半導體和MEMS工藝，我們實現了Al和Cr的納米級線寬蝕刻。
與傳統的SERIO相比，它可以蝕刻廣泛的基材和應用，包括除
Si晶圓之外的基材、藍寶石和GaAs等化合物半導體晶圓、光掩模用玻璃和石英。
與8英寸晶圓兼容的裝載鎖定類型是標準配置，并且可以根據工藝進行定制，例如加熱臺和更大的腔室。
與經過驗證的多室系統相結合，可以非常輕松地部署到全面的大規模生產應用中。
配備多個蝕刻室和一個SWP灰化室，可以實現高產量、一致的金屬膜蝕刻工藝。
我們使用我們的內部演示機進行過程測試，提供好的硬件和軟件來滿足您的需求。
我們為半導體、MEMS、光掩模、高頻器件、光子器件等從工藝開發到量產提供可靠的支持。
