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我司銷售的太陽能模擬器（ HO-SC-SS Series）2024/12/05

用于在實驗室模擬太陽光的儀器稱為太陽模擬器。Holmarc的太陽模擬器是目前太陽模擬器之一。我們使用氙燈作為光源，并配備了高質(zhì)量的準直光學(xué)鏡片、空氣質(zhì)量濾波器和控制電子設(shè)備。此外，我們還配備了百葉窗，以便控制光束的落區(qū)。特殊的設(shè)計和控制電子元件讓用戶在使用設(shè)備時感到非常方便。您可以在任何需要穩(wěn)定光源的實驗中使用該儀器。規(guī)格300W太陽能模擬器-300W氙燈：型號-HO-SC-SS300C光輸出:1個太陽光譜匹配度（理想百分比的分數(shù)）：0.60-1.40輻照度不均勻度:時間光不穩(wěn)定性：±2照明頭設(shè)

我司銷售的量子效率測量系統(tǒng) - VIS IR(HO-SC-QE-C1)2024/12/05

光譜響應(yīng)度或量子效率（QE）對于了解光伏設(shè)備中的電流產(chǎn)生、重組和擴散機制至關(guān)重要。光伏電池和組件的校準通常需要使用量子效率的光譜校正因子。量子效率的單位是每個入射光子收集到的電子-空穴對，它是根據(jù)測量到的光譜響應(yīng)計算出來的，單位是安培/瓦，是波長的函數(shù)。HO-SC-QE型號集成了50瓦鹵鎢燈、外殼、光學(xué)器件、電源和易于使用的軟件，能夠測量400納米到1200納米波長范圍內(nèi)太陽能電池的光譜響應(yīng)和量子效率。規(guī)格參數(shù)SR（光譜響應(yīng)）EQE（外部量子效率）或IPCE（入射光子對電流效率）（交流和直流光譜

我司銷售量子效率和光譜響應(yīng)測量系統(tǒng)（HO-SC-QE）2024/12/05

光譜響應(yīng)度或量子效率（QE）對于了解光伏設(shè)備中的電流產(chǎn)生、重組和擴散機制至關(guān)重要。光伏電池和組件的校準通常需要使用量子效率的光譜校正因子。量子效率的單位是每個入射光子收集到的電子-空穴對，它是根據(jù)測量到的光譜響應(yīng)計算出來的，單位是安培/瓦，是波長的函數(shù)。HO-SC-QE型號集成了50瓦鹵鎢燈、外殼、光學(xué)器件、電源和易于使用的軟件，能夠測量400納米到1200納米波長范圍內(nèi)太陽能電池的光譜響應(yīng)和量子效率。規(guī)格光源：50瓦鹵素?zé)舨ㄩL范圍：400納米至1200納米斬波器頻率：400Hz偏置光：3W白色

我司銷售的量子效率& IV 測量系統(tǒng)（HO-SC-QEIV）2024/12/03

光譜響應(yīng)度或量子效率（QE）對于了解光伏設(shè)備中的電流產(chǎn)生、重組和擴散機制至關(guān)重要。光伏電池和組件的校準通常需要使用量子效率的光譜校正因子。量子效率的單位是每個入射光子收集到的電子-空穴對，它是根據(jù)測量到的光譜響應(yīng)計算出來的，單位是安培/瓦，是波長的函數(shù)。HO-SC-QEIV型號與300瓦氙燈集成，配有外殼、光學(xué)器件、電源和一個易于使用的軟件，能夠測量太陽能電池的暗態(tài)和亮態(tài)IV特性以及量子效率測量（300nm-1600nm）。規(guī)格太陽能電池類型：染料敏化太陽能電池、單晶硅/多晶硅太陽能電池、過氧化

我司銷售的磁光學(xué)光譜儀（HO-A216FR/KRORMS）2024/12/03

Holmarc推出了一種新型創(chuàng)新的高靈敏度和高磁場光譜法拉第/克爾效應(yīng)測量設(shè)備，采用VIS-NIR波長。HOLMARCA216FR/KR測試站提供標準化的測試解決方案，適用于各種光學(xué)旋轉(zhuǎn)測量應(yīng)用。模塊化硬件設(shè)計允許用戶在一臺儀器中自動測量法拉第效應(yīng)、MOKE和橢偏儀。專為磁光學(xué)材料研究和測試而設(shè)計，包括鐵磁和鐵磁薄膜和材料的磁特性分析。測量包括超薄磁性薄膜和多層膜的磁滯回線、橢圓度測量、介電材料薄膜厚度測量、折射率、Delta和Psi測量等。系統(tǒng)可在極性、縱向和橫向配置下運行。規(guī)格光源：Spec

我司銷售的光譜磁光學(xué)旋轉(zhuǎn)儀（HO-VIS214ORMS）2024/12/03

它專為測量波長范圍為385nm至900nm的法拉第旋轉(zhuǎn)角而設(shè)計。利用該設(shè)備可以精確測量法拉第旋轉(zhuǎn)的磁場相關(guān)性。該法拉第效應(yīng)測量設(shè)備的工作原理是旋轉(zhuǎn)分析法。在磁極間隙為12毫米時，可產(chǎn)生最大15,000高斯的磁場。光學(xué)旋轉(zhuǎn)測量分辨率為±0.01度。通過使用可選裝置，還可以測量熱依賴性。由于可以設(shè)計安裝加熱室和低溫恒溫器，因此可以評估-70至300°C范圍內(nèi)的熱依賴性。用戶可通過軟件控制樣品溫度和磁場。規(guī)格光源：Spectra20W石英鹵素?zé)羝穹治龇椒ǎ盒D(zhuǎn)分析方法比色皿：10毫米路徑長度玻璃比色

我司銷售的基于激光的高靈敏度磁光克爾效應(yīng)站2024/12/03

HOLMARCMOKELB215是一種易于使用的基于磁光克爾效應(yīng)（MOKE）激光的系統(tǒng)，它提供了一種獲取不同磁場和溫度下磁矩變化的便捷方法。測量使用408nm、532nm和650nm二極管激光器。該儀器采用了鎖相放大器技術(shù)，并使用光學(xué)調(diào)制器進行調(diào)制。樣品安裝在磁體中心，表面與磁場平行或垂直。提供的高磁場、可變間隙偶極電磁鐵允許用戶以縱向或垂直的幾何形狀施加大磁場（10毫米極間隙時約20,000高斯），以研究硬磁材料。HOLMARCMOKELB215隨附ORMS軟件。它可以快速準確地管理數(shù)據(jù)收集和

我司銷售的近正常光譜反射儀（HO-NNSR-02）2024/12/03

近正常光譜反射儀是用于工業(yè)和研究領(lǐng)域薄膜厚度分析的基本儀器。Holmarc的NNSR（型號：HO-NNSR-02）能夠高速、高重復(fù)性地分析薄膜厚度、復(fù)折射率和表面粗糙度。NNSR理論采用菲涅爾方程的復(fù)雜矩陣形式。絕對反射光譜是反射儀的原理，即反射光束（通常為多色）的強度與入射光束強度的比值。通常入射到樣品表面的光束會從薄膜的頂部和底部反射出來，這些光束會受到干擾，并通過光纖（雙纖光纖）經(jīng)計算機傳導(dǎo)到連接光譜儀的CCD上。在監(jiān)視器上，我們可以看到與薄膜厚度成正比的干涉振蕩光譜圖。規(guī)格薄膜厚度范圍：

我司銷售自動折射儀（HO-AR-1700）2024/12/02

來自Holmarc的AR-1700自動折射儀是一款結(jié)構(gòu)緊湊的儀器，用于測量折射率和白利糖度的數(shù)字式自動折射儀。AR-1700自動折射儀具有精確度、自動溫度補償、寬讀數(shù)范圍和簡單快速的操作等特點。它具有出色的靈活性，可為各種應(yīng)用提供準確的讀數(shù)。規(guī)格工作原理：光學(xué)折射臨界角檢測系統(tǒng)折射率：1.3200-1.6500分辨率:0.0001精度:+-0.001糖度：0-95分辨率:0.01精度：+-0.5光波長：589nm(NaD-line)光源:高性能LED濾光器：589nm干涉濾光器探測器：東芝線性陣

我司銷售用于液下低能表面的接觸角儀器（HO-IAD-CAM-LLE）2024/12/02

與使用注射器制造液體并將其滴到表面的標準設(shè)置不同，這種的儀器可用于在液浴中制造兩個獨立的液滴。利用攝像頭設(shè)置，可以從底部和側(cè)面觀察液滴表面。在垂滴沉積技術(shù)中，一根末端裝有液滴的針被帶到表面附近。液滴接觸表面后會擴散并達到平衡，在此過程中，液滴會自發(fā)地從針上脫落。規(guī)格這些運動都是全自動的，可通過專用軟件進行控制。該系統(tǒng)包括雙注射泵、兩個13.5毫米寬10X物鏡、變焦鏡頭組件、圖像組合光學(xué)器件、5MPUSB攝像機、樣品定位臺、LED光源等。液滴的底視圖和側(cè)視圖寬度相同，可在一個窗口中查看。設(shè)備配有兩

我司提供用于液下低能表面的接觸角儀器現(xiàn)貨銷售2024/12/02

與使用注射器制造液體并將其滴到表面的標準設(shè)置不同，這種儀器可用于在液浴中制造兩個獨立的液滴。利用攝像頭設(shè)置，可以從底部和側(cè)面觀察液滴表面。在垂滴沉積技術(shù)中，一根末端裝有液滴的針被帶到表面附近。液滴接觸表面后會擴散并達到平衡，在此過程中，液滴會自發(fā)地從針上脫落。功能這些運動都是全自動的，可通過專用軟件進行控制。該系統(tǒng)包括雙注射泵、兩個13.5毫米寬10X物鏡、變焦鏡頭組件、圖像組合光學(xué)器件、5MPUSB攝像機、樣品定位臺、LED光源等。液滴的底視圖和側(cè)視圖寬度相同，可在一個窗口中查看。設(shè)備配有兩個

我司提供銷售的接觸角測量儀（HO-IAD-CAM-01B）現(xiàn)貨銷售2024/12/02

Holmarc的接觸角測量儀型號：HO-IAD-CAM-01B是一款先進的測量儀，配有自動分配器、可旋轉(zhuǎn)的基底支架和溫度控制器。與型號HO-IAD-CAM-01A的附加功能是，該型號配備了基質(zhì)支架溫度控制裝置（最高溫度可達環(huán)境溫度100攝氏度）。這對于研究接觸角隨溫度的變化非常理想。Holmarc接觸角分析軟件具有視頻捕捉和視頻圖像處理功能。測量接觸角的表面可以從水平位置旋轉(zhuǎn)180度，以進行高級接觸角研究，并發(fā)現(xiàn)接觸角滯后現(xiàn)象。規(guī)格測量方法：無柄水滴法分析方法：采用蛇滴法進行自動曲線擬合分析。光

我司提供儀器接觸角測量儀（HO-IAD-CAM-01BC）現(xiàn)貨銷售2024/12/02

Holmarc的接觸角測量儀型號為：HO-IAD-CAM-01BC，是一種先進的型號，具有動態(tài)接觸角測量功能，可通過電動方式精確傾斜基底支架、點膠機到攝像頭定位裝置（攝像頭可定位在不同角度，以進行液滴成像）、自動點膠機和溫度控制。可在不同角度測量前進和后退接觸角（圖像采集也是自動的），還可測量滾落角。規(guī)格測量方法蛇滴法分析方法采用蛇滴法進行自動曲線擬合分析。光學(xué)系統(tǒng)高性能像差校正成像鏡頭，可精確手動調(diào)節(jié)焦距。測量角度范圍0-180度測量精度≤1度攝像頭類型CMOS傳感器圖像分辨率（像素）2592

光譜極坐標儀。（HO-ASP-500）現(xiàn)貨銷售2024/12/02

Holmarc為工業(yè)和研究領(lǐng)域制造性能可靠、效率高的高質(zhì)量自動偏振計。我們的偏振計采用法拉第調(diào)制的對稱角振蕩光學(xué)無效技術(shù)，以實現(xiàn)高分、辨率和可重復(fù)性。HO-ASP-500采用石英鹵素?zé)艉透吖庾V分辨率單色器作為光源。通過使用石英鹵素?zé)簦稍?80-850nm的寬分析波長范圍內(nèi)進行測量。與普通干涉濾光片相比，波長精度更高。我們的高質(zhì)量光學(xué)系統(tǒng)提高了光收集能力和系統(tǒng)的靈活性。設(shè)備上的所有調(diào)整均可通過易于使用的觸摸屏進行。規(guī)格光源：石英鹵素?zé)籼綔y器：PMT單色儀：Czerny-Turner光柵：熾熱全息

接觸角測量儀（HO-IAD-CAM-01）現(xiàn)貨銷售2024/12/02

Holmarc的接觸角測量儀（型號：HO-IAD-CAM-01）是一款結(jié)構(gòu)緊湊、經(jīng)濟高效的CMOS儀器，用于測量液體在固體基底上的接觸角。它配有帶攝像頭接口的手動分配裝置，用于測量液體在固體表面上的接觸角。測量接觸角的表面保持水平位置，使用無柄液滴法測量接觸角。規(guī)格測量方法：無柄水滴法分析方法：采用蛇滴法進行自動曲線擬合分析。光學(xué)器件：高性能像差校正成像鏡頭，可精確手動調(diào)節(jié)焦距。攝像頭類型和FPS：CMOS傳感器圖像分辨率（像素）：2592x1944視頻系統(tǒng)：高性能CMOS傳感器。隨附3米屏蔽U

光譜極坐標儀（HO-ASP-500）2024/11/29

Holmarc為工業(yè)和研究領(lǐng)域制造性能可靠、效率高的高質(zhì)量自動偏振計。我們的偏振計采用法拉第調(diào)制的對稱角振蕩光學(xué)無效技術(shù)，以實現(xiàn)高分辨率和可重復(fù)性。HO-ASP-500采用石英鹵素?zé)艉透吖庾V分辨率單色器作為光源。通過使用石英鹵素?zé)簦稍?80-850nm的寬分析波長范圍內(nèi)進行測量。與普通干涉濾光片相比，波長精度更高。我們的高質(zhì)量光學(xué)系統(tǒng)提高了光收集能力和系統(tǒng)的靈活性。設(shè)備上的所有調(diào)整均可通過一個易于使用的觸摸屏進行，樣品參數(shù)可根據(jù)不同的應(yīng)用進行定制。規(guī)格光源：石英鹵素?zé)籼綔y器：PMT單色儀：Cz

數(shù)字偏振計（HO-DP-500）2024/11/29

Holmarc生產(chǎn)的自動數(shù)字偏振計性能穩(wěn)定、效率高，適用于工業(yè)和研究領(lǐng)域。我們的偏振計采用法拉第調(diào)制的對稱角振蕩光學(xué)空技術(shù)，以實現(xiàn)高分辨率和可重復(fù)性。操作非常簡單：將裝滿樣品的試管放入自動偏振儀，然后按下READ（讀取）按鈕。測量結(jié)果將顯示在儀器的彩色液晶顯示屏上。規(guī)格光源：LED光學(xué)波長：589納米測量范圍：±180°（可切換）分辨率:0.009度重復(fù)性:0.018Deg.精度：±0.03度測量模式：光學(xué)旋轉(zhuǎn)、比旋轉(zhuǎn)、濃度、光學(xué)純度和糖度。樣品室：可容納長度達200毫米的樣品池原理：對稱角振蕩

磁光學(xué)橢偏儀（HO-A216MOE-PH）2024/11/29

Holmarc推出了一種利用VIS-NIR波長的創(chuàng)新型高靈敏度和高磁場光譜橢偏測量設(shè)備。HOLMARCA216測試站提供標準化的測試解決方案，適用于各種光學(xué)旋轉(zhuǎn)測量應(yīng)用。模塊化硬件設(shè)計允許用戶在磁場和無磁場條件下自動測量液體、固體和薄膜樣品。專為磁光學(xué)材料研究和測試而設(shè)計，包括鐵磁和鐵磁薄膜和材料的磁特性分析。測量包括超薄磁性薄膜和多層膜的磁滯回線、橢圓度測量、介電材料薄膜厚度測量、折射率、Delta和psi測量等。系統(tǒng)可在極性、縱向和橫向配置下運行。規(guī)格光源：Spectra鹵素?zé)簟㈦疅?鹵素?zé)?

可變角度光譜橢偏儀（HO-SE-01XY）2024/11/27

Holmarc型號：HO-SE-01XY可變角度光譜橢偏儀是旋轉(zhuǎn)分析儀型橢偏儀，用于測量單層和多層薄膜的厚度和折射率。它可以測量幾納米到幾十微米范圍內(nèi)的薄膜厚度，以及透明材料和吸收材料的光學(xué)常數(shù)。規(guī)格光譜范圍：450-800納米橢偏儀配置：RAE探測器：3648像素CCD線性傳感器光譜分辨率：1納米入射角：50-75度（分辨率0.1度，自動操作）樣品聚焦：自動樣品厚度：0.3毫米-8毫米樣品XY平臺行程：30毫米x30毫米（電動）厚度測量范圍：20納米-10微米薄膜厚度分辨率：0.01納米測量R

可變角度光譜橢偏儀（HO-SE-01）2024/11/27

光譜橢偏儀廣泛用于薄膜分析和測量。Holmarc的光譜橢偏儀采用旋轉(zhuǎn)分析儀橢偏技術(shù)來表征薄膜樣品。它使用高速CCD陣列檢測來收集整個光譜。它可以測量從納米厚度到幾十微米的薄膜，以及從透明材料到吸收材料的光學(xué)特性。它能精確測量折射率、薄膜厚度和消光系數(shù)等光學(xué)常數(shù)。規(guī)格光譜范圍：450-800納米橢偏儀配置：RAE探測器：3648像素CCD線性傳感器光譜分辨率：1納米入射角：50-75度（分辨率0.1度，自動操作）樣品聚焦：自動樣品厚度：0.3毫米-8毫米厚度測量范圍：20納米-10微米薄膜厚度分辨