SENTECH ICP等離子沉積系統(tǒng)-SI 500D
是主流的半導(dǎo)體設(shè)備商，研發(fā)、制造和銷售良好的薄膜測量儀器（反射儀、橢偏儀、光譜橢偏儀）和等離子工藝設(shè)備（等離子刻蝕機(jī)、等離子沉積系統(tǒng)、用戶定制系統(tǒng)）。
SI 500D等離子沉積系統(tǒng)是ICP-PECVD設(shè)備，利用ICP高密度等離子源來沉積電介質(zhì)薄膜?？稍跇O低溫度下(< 100oC)沉積高質(zhì)量SiO2, Si3N4, 和SiOxNy薄膜?？梢詫崿F(xiàn)沉積薄膜厚度、折射率、應(yīng)力的連續(xù)調(diào)節(jié)。
SI 500 D主要特點：
適用于8寸以及以下晶片
低溫沉積高質(zhì)量電介質(zhì)膜：80°C~350°C
高速率沉積
低損傷
薄膜特性 (厚度、折射率、應(yīng)力) 連續(xù)可調(diào)
平板三螺旋天線式PTSA等離子源 (Planar Triple Spiral Antenna)
SENTECH高級等離子設(shè)備操作軟件
穿墻式安裝方式
系統(tǒng)配置：
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北京亞科晨旭科技有限公司
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