Evap-4 Power Supply電子束蒸發電壓控制器用于電子束蒸發器，具有高效、緊湊的4通道，具備共蒸發能力。迷你電子束蒸發器能夠在沉積常見工藝金屬（如金、銀和鉻）時提供佳的控制力，并且與熱舟源相比，對基底和周圍環境的熱負荷極小。
這種技術利用電子束直接蒸發棒狀材料，或者通過加熱偏置坩堝間接蒸發材料。當從坩堝蒸發時，部分準直的電子束在材料利用率方面比傳統電子束蒸發器或熱舟源更具優勢，尤其是在處理昂貴材料時。
主動冷卻的銅頭設計使得在運行過程中幾乎不產生放氣，而封閉的蒸發槽可以吸收大部分輻射熱，從而進一步降低對基底的熱負荷。Evap-4非常適合在溫度敏感的基底上沉積精確的薄膜涂層。Evap-4配備了通量板，用于測量源材料發出的離子通量，并提供沉積速率的獨立測量。
Evap-4 Power Supply電子束蒸發電壓控制器可在一個單元內控制多達4個蒸發槽，并提供兩種控制模式：
- 燈絲電流控制：用戶直接調節燈絲電流。
- 功率控制：用戶設置功率設定點，電源會自動調節燈絲電流以達到所需的功率。
規格參數
- 安裝法蘭：NWCF63
- 真空內長度：標準300毫米（可定制長度）
- 真空內直徑：57毫米
- 坩堝體積：1000毫米3（1立方厘米）
- 坩堝材料：鉬（Mo）、鎢（W）、石墨（Gr）
- 坩堝襯里：氧化鋁（Al?O?）、氮化硼（PBN）
- 超高真空（UHV）兼容性：是，可烘烤至250°C
- 冷卻液流量：Min1.0升/分鐘
- 快門：手動或可選氣動執行器
- 功率：單相100-240伏交流電，50/60赫茲
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