CY-MSH300- II-RFRF-SS 雙靶磁控濺射鍍膜儀(射頻)
- 公司名稱 鄭州成越科學儀器有限公司
- 品牌
- 型號 CY-MSH300- II-RFRF-SS
- 產地
- 廠商性質 生產廠家
- 更新時間 2025/7/31 8:59:58
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CY-MSH300- II-RFRF-SS雙靶磁控濺射鍍膜儀(射頻)為我公司研發的實驗室專用鍍膜儀,設備可選配直流電源,和射頻電源,功率從500W-1000W不等,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜等。
磁控濺射相較于普通的等離子濺射擁有能量高速度快的優點,鍍膜速率高,樣品溫升低,是典型的高速低溫濺射。磁控靶配有水冷夾層,水冷機能夠有效的帶走熱量,避免熱量在靶面聚集,使磁控鍍膜能長時間穩定工作。
設備經過緊湊化設計,實現了體積與性能的平衡,造型美觀功能齊全。整機均采用觸控屏控制,內置一鍵式鍍膜程序,操作簡單易上手,是一款實驗室制備薄膜的理想設備。
技術參數:
項目 | 明細 | |
產品型號 | CY-MSH300- II-RFRF-SS | |
供電電壓 | AC220V,50Hz | |
整機功率 | 4KW | |
系統真空 | ≦5×10-4Pa | |
樣品臺 | 外形尺寸 | φ185mm |
加熱溫度 | ≦500℃ | |
控溫精度 | ±1℃ | |
可調轉速 | ≦20rpm | |
磁控靶槍 | 靶材尺寸 | 直徑Φ50.8mm,厚度≦3mm |
冷卻模式 | 循環水冷 | |
水流大小 | 不小于10L/Min | |
真空腔體 | 腔體尺寸 | 直徑φ325mm,高度500mm |
腔體材質 | SUU304不銹鋼 | |
觀察窗口 | 直徑φ100mm | |
開啟方式 | 頂開式 | |
氣體控制 | 1路質量流量計用于控制Ar流量,量程為:200SCCM | |
真空系統 | 配分子泵系統1套,氣體抽速600L/S | |
膜厚測量 | 可選配石英晶體膜厚儀,分辨率0.10 ? | |
濺射電源 | 射頻電源500W*2 | |
控制系統 | CYKY自研專業級控制系統 | |
設備尺寸 | 600mm × 650mm × 1280mm | |
設備重量 | 350kg |
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