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邁可諾技術有限公司

主營產品: 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機

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AT-200MAnric原子層沉積系統

Anric原子層沉積系統
參考價 面議
具體成交價以合同協議為準
  • 型號 AT-200M
  • 品牌 其他品牌
  • 廠商性質 代理商
  • 所在地 北京市

更新時間:2025-07-02 10:20:38瀏覽次數:1065

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【簡單介紹】
產地類別 進口 應用領域 化工,電子/電池,電氣
占地面積小的桌面系統(< 0.15 立方米 | 2.5 平方英尺)
具有超快 MFC 的高溫兼容快速脈沖 ALD 閥,用于集成惰性氣體吹掃。
4 英寸圓形卡盤可定制,適用于較小尺寸或其他形狀(11 毫米高)。
3 種有機金屬前體和 2 種(最多 3 種)反反應物。
整個加熱管線(從前體到腔室)。
高曝光(用于溝槽和多孔基板)和靜態處理模式
全鋁(半導體級)腔室 ? 范圍高達 310°C
【詳細說明】
  • 占地面積小的桌面系統,兼容無塵室。

  • 占地面積小的桌面系統(< 0.15 立方米 | 2.5 平方英尺)

  • 具有超快 MFC 的高溫兼容快速脈沖 ALD 閥,用于集成惰性氣體吹掃。

  • 4 英寸圓形卡盤可定制,適用于較小尺寸或其他形狀(11 毫米高)。

  • 3 種有機金屬前體和 2 種(最多 3 種)反反應物。

  • 整個加熱管線(從前體到腔室)。

  • 高曝光(用于溝槽和多孔基板)和靜態處理模式

  • 全鋁(半導體級)腔室 ? 范圍高達 310°C

  • 7″ 觸摸屏 PLC 控制器(無需 PC)

  • 包括終身軟件升級

  • 1 年保修(包括零件)

  • AT610

  • 全鋁(半導體級)腔室 ? 范圍高達 310°C

  • 具有超快 MFC 的高溫半導體級快速脈沖 ALD 閥,用于集成惰性氣體吹掃。

  • 6″ 圓形卡盤(7″ 方形)可定制為更小的尺寸或其他形狀(11 毫米高)。

  • 流線型腔體設計,腔體體積小

  • 3 種有機金屬前體和 2 種(最多 3 種)反反應物。

    • 前體可以加熱到 150°C。

  • 整個加熱管線(從前體到腔室)。

  • 簡單的系統維護和市場上的公用事業和前體使用

  • 高曝光(用于溝槽和多孔基板)和靜態處理模式

  • 7″ 觸摸屏 PLC 控制器(無需 PC)







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