1800度500克真空感應熔煉爐 參考價：160000
1800度500克真空感應熔煉爐廣泛應用于大專院校及科研單位等在真空或保護氣氛條件下晶體的生長
1700度25公斤真空感應熔煉爐 參考價：180000
1700度25公斤真空感應熔煉爐廣泛應用于大專院校及科研單位等在真空或保護氣氛條件下對金屬材料（如 不銹鋼、鎳基合金、銅、合金鋼、鎳鈷合金、稀土釹鐵錋等）的熔煉...
2200度300g真空懸浮熔煉爐 參考價：180000
2200度300g真空懸浮熔煉爐是將分瓣水冷銅坩堝置于強大的交變磁場中，利用感應渦流加熱水冷銅坩堝中的金屬使其融化，依靠電磁力使熔融金屬與水冷銅坩堝不產(chǎn)生密切接...
鎳鈷合金中頻感應熔煉爐 參考價：180000
鎳鈷合金中頻感應熔煉爐功能全 面、熔煉快速、使用方便、節(jié)能環(huán)保，非常適合實驗室進行金屬樣品研究。廣泛應用于大專院校及科研單位等在真空或保護氣氛條件下對金屬材料（...
1800度1Kg真空感應熔煉爐 參考價：80000
1800度1Kg真空感應熔煉爐是真空冶金領(lǐng)域中應用廣泛的設(shè)備之一。它可以在真空環(huán)境下熔煉這些金屬，去除其中的雜質(zhì)，生產(chǎn)出高純金屬
2000℃15kw真空感應熔煉爐 參考價：60000
2000℃15kw真空感應熔煉爐熔煉快速、使用方便、節(jié)能環(huán)保，非常適合實驗室進行小劑量的金屬樣品研究。
多源高真空蒸發(fā)鍍膜儀 參考價：250000
多源高真空蒸發(fā)鍍膜儀設(shè)備采用前開門式真空腔體設(shè)計，腔體空間大，可拓展性強，能夠滿足多樣式大尺寸樣品的蒸發(fā)鍍膜。腔體內(nèi)配有上置樣品臺，可根據(jù)用戶樣品樣式選取夾持或...
桌面型石英腔體小型蒸發(fā)鍍膜儀 參考價：90000
本產(chǎn)品為桌面型石英腔體小型蒸發(fā)鍍膜儀，可提供100A的鍍膜電流，蒸發(fā)溫度可達1800℃，能夠滿足各種常見金屬及部分非金屬的蒸鍍
桌面型熱蒸發(fā)鍍膜儀帶膜厚儀 參考價：90000
桌面型熱蒸發(fā)鍍膜儀帶膜厚儀可提供100A的鍍膜電流，蒸發(fā)溫度可達1800℃，能夠滿足各種常見金屬及部分非金屬的蒸鍍
小型電動升降樣品臺蒸發(fā)鍍膜儀 參考價：90000
小型電動升降樣品臺蒸發(fā)鍍膜儀為桌面型小型蒸發(fā)鍍膜儀，設(shè)備安裝有鎢絲籃蒸發(fā)源，可提供*大100A的鍍膜電流，*大蒸發(fā)溫度可達1800℃，能夠滿足各種常見金屬的蒸鍍...
多源真空蒸發(fā)鍍膜儀 參考價：250000
多源真空蒸發(fā)鍍膜儀還適用于對氧敏感的金屬薄膜（如Ti、Al、Au等）的蒸鍍，也適用于各種氧化物材料的蒸鍍
小型高真空雙源熱蒸發(fā)鍍膜儀 參考價：90000
小型高真空雙源熱蒸發(fā)鍍膜儀可提供100A的鍍膜電流，蒸發(fā)溫度可達1800℃，能夠滿足各種常見金屬的蒸鍍及部分非金屬蒸鍍。
桌面型有機源蒸發(fā)鍍膜儀 參考價：100000
桌面型有機源蒸發(fā)鍍膜儀的物理過程主要包括材料的蒸發(fā)、氣態(tài)粒子的輸運以及在基底上的沉積成膜。在蒸發(fā)過程中，材料需要獲得足夠的熱能以克服分子間的結(jié)合能，從而轉(zhuǎn)變?yōu)闅?..
高真空三源熱蒸發(fā)鍍膜儀 參考價：250000
高真空三源熱蒸發(fā)鍍膜儀應用領(lǐng)域：金屬和介電膜 ，薄膜傳感器的制造 ，光學元件 ，納米與微電子 ，太陽能電池等
雙靶直流磁控濺射鍍膜儀 參考價：120000
雙靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點，是一款實驗...
三靶向上磁控濺射鍍膜儀 參考價：250000
三靶向上磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該磁控...
光纖繞絲單靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：200000
光纖繞絲單靶磁控濺射鍍膜儀是一種用于制備薄膜的設(shè)備。它可以在基板表面形成均勻、致密、薄且具有特定性質(zhì)的膜層
帶過渡艙三靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：250000
本設(shè)備為帶過渡艙三靶磁控濺射鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應用，也可實驗室SEM樣品制備
三靶直流磁控濺射鍍膜儀 參考價：250000
三靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該磁控...
粉末磁控濺射鍍膜儀 參考價：220000
粉末磁控濺射鍍膜儀是一種用于在基材表面沉積薄膜的設(shè)備，利用磁控濺射技術(shù)將粉末狀的靶材轉(zhuǎn)化為薄膜覆蓋在基材上
三靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：350000
三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該磁控濺射...
桌面型不銹鋼腔體單靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：120000
桌面型不銹鋼腔體單靶磁控濺射鍍膜儀是一種物理氣相沉積設(shè)備，廣泛應用于半導體、光電子、顯示技術(shù)和表面工程等領(lǐng)域。該設(shè)備采用磁控濺射技術(shù)，通過磁場增強離子化效率，從...
臥式高真空三靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：250000
臥式高真空三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點，...
高真空4英寸三靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：350000
高真空4英寸三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點...
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