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下置四靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：350000
下置四靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優點，是一款...
桌面型雙靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：120000
桌面型雙靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優點，是一款實...
桌面型單靶直流磁控濺射鍍膜儀 參考價：120000
桌面型單靶直流磁控濺射鍍膜儀是一種物理氣相沉積設備，廣泛應用于半導體、光電子、顯示技術和表面工程等領域。該設備采用磁控濺射技術，通過磁場增強離子化效率，從而實現...
分體式高真空三靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：250000
分體式高真空三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優點...
高真空三靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：250000
高真空三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優點，是一...
雙靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：120000
雙靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優點，是一款實驗室制...
桌面型磁控濺射鍍膜儀上置靶槍 參考價：120000
桌面型磁控濺射鍍膜儀上置靶槍是一種物理氣相沉積設備，廣泛應用于半導體、光電子、顯示技術和表面工程等領域。該設備采用磁控濺射技術，通過磁場增強離子化效率，從而實現...
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