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MC方案｜RIE / ICP干法蝕刻工藝案例2020/11/16

ICP/RIE蝕刻應用范圍：-Si，SiO2，SiN蝕刻工藝-Al，Cr，Ti，TiW，Au，Mo等金屬蝕刻工藝-晶圓尺寸：一片，4英寸，6英寸晶圓RIE等離子刻蝕案例：SiO2/SiN蝕刻80sccmCF4，均勻性幾種功率水平下的壓力與蝕刻速率（如下圖）：PlasmaSTAR®系列等離子處理系統適合處理所有的材料，擁有模塊化腔室和電極配置，可滿足不同的等離子工藝和基片尺寸。占地面積小，觸摸屏計算機控制，多級程序控制和組件控制，操作簡單。用于研究、工藝開發和批量生產，可輕松集成到自動化生產線和系

MC方案｜如何設計制作微透鏡陣列？2020/11/16

“納米壓印技術”展示了通過在溫度和壓力控制的印刷過程中使熱塑性材料物理變形來執行低于100nm平行光刻的能力。使用通過電子束光刻和干刻蝕圖案化的硅壓模來實現。這項技術的優點在于，可使用具有納米圖案的硅“母版”，進行成千上萬次復制，從而降低成本并提高產量，用于半導體工藝中的開發個研究。包含的技術：熱壓印、UV紫外壓印、微米結構壓?。?micro;CP）、卷對卷壓印和注塑成型等。典型的基材材料：硅，熔融石英，III-V材料和聚合物材料等。典型的壓印聚合物：PMMA，COC，COP，PC和PET等。下面我們來具體

MC應用｜微納加工中的等離子處理和勻膠旋涂2020/11/16

結合使用等離子處理和旋涂，研究人員可以獲得具有更高穩定性和性能的均勻材料涂層。等離子體處理通過引入含有親水性氧的官能團來改變表面化學性質。極性基團使基材可潤濕，并且能夠更好地與水溶液相互作用。等離子處理促進了粘附力并在基材上平滑鋪展。旋涂設備利用離心力來產生水平，均勻的薄膜和涂層。通過試驗轉速和加速度，研究人員可以JINQUE地確定特定的膜厚。旋涂可改善設備質量和專業外觀。這些工具可以無縫地協同工作，以在各種基材上提供均勻的膜和涂層。在許多應用中，一致的涂層特性可提高穩定性和功能性。柔性電子等離

MC方案｜AFM探針應該如何清洗呢？2020/11/13

目前，越來越多的原子力顯微鏡被引入到各項研究中，但是相信很多科研人員會發現，做了幾次樣品后，針尖或者懸臂梁總會有東西粘附上去了，圖像質量和原來的形貌出入太大，沒有多少細節，甚至出現雙針尖現象，這個時候，被污染的針尖已經嚴重影響到實驗。而AFM探針針尖應該怎樣清洗才合適呢，這個問題一直困擾著科研人員。粒子探針一般采用的是紫外臭氧清洗技術來清洗有機物，紫外臭氧技術*是光子輸出，對探針表面不會造成任何損傷，是一種溫和的清洗方法。PSD和PSDP系列紫外臭氧系統通過產生185nm和254nm高強度UV光

MC方案｜如何快速無損測量多層鈣鈦礦薄膜厚度？2020/11/13

鈣鈦礦廣泛用于太陽能電池的開發。由于這些類型的太陽能電池具有良好的光伏性能，因此對它們進行了系統的研究。鈣鈦礦薄膜的厚度和形態是影響太陽能電池性能的重要因素。人們發現，特別當鈣鈦礦的厚度小于400nm時，鈣鈦礦太陽能電池的效率很大程度上取決于薄膜厚度；而當鈣鈦礦的厚度大于400nm時，效率則很大程度上取決于鈣鈦礦層的薄膜形態。在本篇方案說明中，我們使用FR-pRoVIS/NIR測量鈣鈦礦薄膜的厚度。FR-pRoVIS/NIR測量方法：用于表征的樣品是兩種不同厚度的CH3NH3PbBr3鈣鈦礦薄膜

MC應用｜Z受歡迎小型臺式等離子清洗機——表面改性2020/11/13

應用領域Harrick等離子清洗機應用領域廣泛，包括材料科學，聚合物科學，生物醫學，微流體技術，鈣鈦礦太陽能電池制備，光學器件，顯微鏡，牙科以及其他醫學研究等。離子表面改性表面改性的好處通過等離子處理來附著或吸附官能團用以處理表面，改變特定應用的表面性能。根據所使用的工藝氣體來定制引入官能團，然后可以使用適當的氣體將表面潤濕性更改為親水性或疏水性。潤濕性的提高，通過改善表面的覆蓋范圍和涂層的延展性以及增強兩個表面之間的附著力，為后續處理（例如膜的沉積或分子吸附）做好準備。等離子處理的實驗結果對照

MC方案｜全新升級——旋轉噴淋式顯影方案2020/11/12

EDC濕法顯影刻蝕系統光刻膠顯影（KrF/ArF）SU8厚膠顯影顯影后清洗PostCMP清洗光刻膠去除金屬Lift-off處理刻蝕微刻蝕處理新一代的旋轉噴淋式濕法處理機臺，不僅jinque控制試劑注射，還能夠大大節約試劑，綠色環保的濕法處理方案。頂蓋閥門控制技術顯影液注射頭的位置我們采用dujia的VoD頂蓋閥門控制技術，確保在基片中心位置垂直向下噴射，確保樣片表面的試劑受力均勻性。VS其他廠商提供的噴射裝置參考如下圖，是從圓弧頂蓋的不同角度傾斜噴射時，樣片收集到的試劑量不均勻，接觸面受力也不均

MC方案｜如何從SU-8模具上進行PDMS光刻復制？2020/09/23

PDMS是一種有機聚合物材料，廣泛應用微流控芯片實驗室。今天我們來介紹有關如何進行PDMS光刻復制，也稱為軟光刻工藝，為您提供一些實驗中的小技巧，優化您的實驗結果。01硅烷化模具的制備*使用模具時，必須使其疏水。SU-8模具中的硅通常具有很強的親水性，因此PDMS對它有良好的親和力，其強度足以使之無法剝離，只能將模具破壞并從頭開始實驗。這里我們使用硅烷功能，一旦在表面上yongjiu粘合，也可使接觸角超過90°，表面疏水?？梢允褂脷怏w或液體處理，即通過氣體或連續的液浴將硅烷功能鍵合在表面上。（*

MC方案｜MEMS應用中懸浮活性硅膜厚度測量2020/09/23

懸浮活性硅膜厚度測量，適用于MEMS微機電系統應用，光斑尺寸為25um。簡介硅基底的傳感器因其高性能、低成本和小尺寸而廣泛應用于不同的MEMS微機電系統。懸浮在圖案上的硅膜或基于SOI的傳感器上的活性硅層的厚度對于控制終平臺的性能至關重要[1]。在這里，我們已經在一個MEMS微機電系統壓力傳感器上測量了硅薄膜厚度，使用的是孔徑為250μm的FR-μProbe，該工具安裝在一個徠卡分模光學顯微鏡上。使用10倍物鏡進行測量，該物鏡與選定的孔徑大小一起對應于25μm的光斑大小(測量區域)。使用內部光源

MC方案｜MEMS應用中懸浮活性硅膜厚度測量2020/09/23

懸浮活性硅膜厚度測量，適用于MEMS微機電系統應用，光斑尺寸為25um。簡介硅基底的傳感器因其高性能、低成本和小尺寸而廣泛應用于不同的MEMS微機電系統。懸浮在圖案上的硅膜或基于SOI的傳感器上的活性硅層的厚度對于控制終平臺的性能至關重要[1]。在這里，我們已經在一個MEMS微機電系統壓力傳感器上測量了硅薄膜厚度，使用的是孔徑為250μm的FR-μProbe，該工具安裝在一個徠卡分模光學顯微鏡上。使用10倍物鏡進行測量，該物鏡與選定的孔徑大小一起對應于25μm的光斑大小(測量區域)。使用內部光源

MC方案｜光刻膠旋涂曲線如何獲得？2020/09/22

旋涂曲線（spincurve）是光刻膠重要參數之一，他給我們選擇光刻膠提供了重要的指導意義。所以我們來介紹一下什么是旋涂曲線？怎樣使用旋涂曲線？如何獲得旋涂曲線？什么是光刻膠旋涂曲線？顧名思義，光刻膠旋涂曲線就是在旋涂工藝下，光刻膠的厚度與勻膠轉速的關系曲線。一般來說，某一固定固含量的光刻膠在相同的勻膠條件下都會有一個相對穩定的膜厚值。這個厚度隨著勻膠轉速的提高而降低。下圖是一個典型的光刻膠旋涂曲線：影響光刻膠旋涂曲線的因素主要有：光刻膠種類和固含量：一般來說，固含量越大，相同轉速下的厚度越厚，

MC方案｜如何快速準確地測定光刻膠的對比度曲線？2020/09/22

納米制造使用光刻工藝(193nm，EUV，EBL等)涉及廣泛的材料、技術和相關的處理步驟，以便生產明確的納米結構。光刻膠的光刻對比曲線是工藝優化常用的參數之一。光致抗蝕劑的對比度曲線是顯影后剩余的抗蝕劑膜厚度，作為對數繪制的曝光劑量的函數[1]。測量方法:在本篇應用案例中，使用EBPG-5000+電子束工具以100千電子伏的速度在不同的曝光劑量下對負性抗蝕劑進行曝光，生成100×100μm正方形的陣列，每個正方形對應不同的曝光劑量。在顯影步驟之后，使用FR-μ探針顯微光譜儀工具在每個正方形上測量

MC方案｜等離子處理中哪種頻率效果好？2020/09/16

等離子處理中哪種頻率效果好？中頻？射頻？微波？KHz，中頻產生等離子體能量大，主要是物理作用；MHz，射頻產生等離子體能量和密度居中,為物理和化學作用；GHz，微波產生等離子體能量小，密度高，主要為化學作用；40kHz、13.56MHz和2.45GHz等離子體激發頻率運用：激發頻率為40kHz的等離子體即超聲等離子體清洗是以物理反應為主的等離子體清洗，也叫做濺射腐蝕（SPE）或離子銑（IM），其優點在于本身不發生化學反應，清潔表面不會留下任何的氧化物，可以保持被清洗物的化學純凈性。超聲等離子體清

MC方案｜鈣鈦礦太陽能電池制備指南2020/09/16

本篇介紹了使用I101鈣鈦礦前體油墨的鈣鈦礦太陽能電池制備過程，該油墨用于底部ITO/PEDOT：PSS陽極和頂部PC70BM/Ca/Al陰極。ITO/PEDOT：PSS/CH3NH3PbI3-xClx/PC70BM/Ca/Al詳細步驟如下：1.基板清潔：清潔預圖案化的ITO基板。將基板在1％的高溫（70°C）中超聲處理5分鐘。在沸騰的去離子（DI）水中漂洗底物兩次（轉儲沖洗），然后在IPA中進一步超聲處理5分鐘，后在沸騰的DI水中漂洗兩次。使用壓縮氮氣干燥基材。2.PEDOT：PSS陽極制備：

MC方案｜如何對光學敏感材料進行固化？2020/09/16

UV固化工藝是光化學反應前沿的應用，通過一定強度的紫外光照射,瞬間固化油墨、涂料、膠等相關化學品。隨著科技的發展，UV固化所涉及領域也更加廣泛，應用于汽車、電子、通訊、航空航天、金屬、玻璃及塑料等制品的制造上。憑籍其對產品品質的提高和優良的環境表現，以每年10%以上的速度替代傳統固化工藝。UV照射可硬化材料中的光起始劑吸收紫外線光譜(波長200-400nm)中的某些特殊波長的光而產生斷鍵情形,這些斷鍵的物質再去撞擊單體和預聚合體而產生連鎖架橋反應,瞬間將此材料從液態變成固態。硬化"Curing"

MC方案｜ 白光反射光譜法（WLRS）測量薄膜疊層厚度2019/06/03

膜厚儀、測厚儀、干涉儀、厚度測量儀FR的工具基于白光反射光譜（Reports），準確同步的厚度測量及薄膜的折射率一個廣泛的多樣化的應用范圍廣泛的光電特性的工具和整體解決方案，如：半導體、有機電子、聚合物、涂料和涂料、光伏、生物傳感、化學傳感……FR-pRo系列

MC方案｜白光反射光譜法（WLRS）測量厚膜厚度2019/06/03

光學膜厚儀膜厚儀、測厚儀、干涉儀、厚度測量儀FR的工具基于白光反射光譜（Reports），準確同步的厚度測量及薄膜的折射率一個廣泛的多樣化的應用范圍廣泛的光電特性的工具和整體解決方案，如：半導體、有機電子、聚合物、涂料和涂料、光伏、生物傳感、化學傳感……FR-uProbe系列

MC方案｜通過白光反射光譜（WLRS）和FR映射器繪制薄膜厚度2019/06/03

膜厚儀、測厚儀、干涉儀、厚度測量儀、FilmThicknessGauges【利用材料的折射率來計算的，非接觸式的膜厚測試儀】FR的工具基于白光反射光譜（Reports），準確同步的厚度測量及薄膜的折射率一個廣泛的多樣化的應用范圍廣泛的光電特性的工具和整體解決方案，如：半導體、有機電子、聚合物、涂料和涂料、光伏、生物傳感、化學傳感……FR-uProbe?系列

MC方案｜酒石酸-蘇氟酸陽極氧化的控制-用WLRS表征陽極涂層2019/06/03

光學膜厚儀膜厚儀、測厚儀、干涉儀、厚度測量儀、FilmThicknessGauges【利用材料的折射率來計算的，非接觸式的膜厚測試儀】FR的工具基于白光反射光譜（Reports），準確同步的厚度測量及薄膜的折射率一個廣泛的多樣化的應用范圍廣泛的光電特性的工具和整體解決方案，如：半導體、有機電子、聚合物、涂料和涂料、光伏、生物傳感、化學傳感……FR-Scanner系列

MC方案｜FR監測儀測量折射率以及薄膜厚度2019/06/03

光學膜厚儀膜厚儀、測厚儀、干涉儀、厚度測量儀、FilmThicknessGauges【利用材料的折射率來計算的，非接觸式的膜厚測試儀】FR的工具基于白光反射光譜（Reports），準確同步的厚度測量及薄膜的折射率一個廣泛的多樣化的應用范圍廣泛的光電特性的工具和整體解決方案，如：半導體、有機電子、聚合物、涂料和涂料、光伏、生物傳感、化學傳感……FR-pRo系列