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MC方案｜吸收法測定溶液中物質濃度2019/06/03

光學膜厚儀膜厚儀、測厚儀、干涉儀、厚度測量儀、FilmThicknessGauges【利用材料的折射率來計算的，非接觸式的膜厚測試儀】FR的工具基于白光反射光譜（Reports），準確同步的厚度測量及薄膜的折射率一個廣泛的多樣化的應用范圍廣泛的光電特性的工具和整體解決方案，如：半導體、有機電子、聚合物、涂料和涂料、光伏、生物傳感、化學傳感……FR-pRo系列

MC方案｜測量玻璃蓋卡瓦的厚度2019/06/03

光學膜厚儀膜厚儀、測厚儀、干涉儀、厚度測量儀FR的工具基于白光反射光譜（Reports），準確同步的厚度測量及薄膜的折射率一個廣泛的多樣化的應用范圍廣泛的光電特性的工具和整體解決方案，如：半導體、有機電子、聚合物、涂料和涂料、光伏、生物傳感、化學傳感……FR-pRo系列

MC方案｜超薄薄膜的厚度測量2019/06/03

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MC方案｜采用FR系列在光譜范圍內測定透明涂層的厚度2019/06/03

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MC方案｜采用FR-Scanner繪制硅晶圓上的薄膜涂層2019/06/03

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MC方案｜全血生物反應的實時監測2019/06/03

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MC方案｜單層石墨烯厚度的測量2019/06/03

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MC方案｜鋁罐內聚合物涂層厚度的測定2019/06/03

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MC方案｜硅片厚度測量2019/06/03

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MC方案｜二甲苯涂層厚度和折射率的測定2019/06/03

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MC方案｜ 白光反射光譜法（WLRS）測量薄膜和超薄膜厚度2019/05/31

光學膜厚儀膜厚儀、測厚儀、干涉儀、厚度測量儀、FilmThicknessGauges【利用材料的折射率來計算的，非接觸式的膜厚測試儀】FR的工具基于白光反射光譜（Reports），準確同步的厚度測量及薄膜的折射率一個廣泛的多樣化的應用范圍廣泛的光電特性的工具和整體解決方案，如：半導體、有機電子、聚合物、涂料和涂料、光伏、生物傳感、化學傳感……FR-pRo系列

MC方案｜利用白光反射光譜（WLRS）膜厚儀硅膜表征2019/05/23

光學膜厚儀膜厚儀、測厚儀、干涉儀、厚度測量儀FR的工具基于白光反射光譜（Reports），準確同步的厚度測量及薄膜的折射率一個廣泛的多樣化的應用范圍廣泛的光電特性的工具和整體解決方案，如：半導體、有機電子、聚合物、涂料和涂料、光伏、生物傳感、化學傳感……FR-pRo系列

MC方案｜利用白光反射光譜（WLRS）評估生物分子層厚度2019/05/20

目的：開發一種快速、準確的生物分子層厚度評估方法測量的方法：引入WLRS用于測量各層的厚度，評價生物分子固定在固體表面上的有效性及其與相應生物分子的后續反應。特別研究了兔（RgG）和小鼠γ-球蛋白（MgG）的吸附及其與互補抗體的反應。通過配備有0.35nm光學分辨率的VIS-NIR光譜儀和白光鹵素燈的FR-Basic進行測量。基板是厚度約為1000nm的熱生長SiO2薄膜的硅晶片。結果：在圖1中，描述了在RGG–Antigg系統中不同層的光譜，其中顯示了由于不同生物分子層的結合而引起的光譜移動。

MC方案｜快速準確地繪制硅晶圓上的薄膜涂層2019/04/09

薄膜厚度均勻性和光學特性（N&K）是集成電路和MEMS制造過程中的一個關鍵參數。薄膜沉積控制可以產生高質量的圖形，并確保在光刻步驟之后的器件性能。除了在半導體開發的步中對薄膜進行檢查的必要性外，還需要在后階段進行檢查，在這一階段進行封裝（在集成電路頂部涂上一層涂層，以保護其免受物理損傷和腐蝕）。在這里，我們使用了FR-Scanner來繪制兩個商業光刻電阻的厚度圖，這兩個光刻電阻沉積在300毫米硅晶片上，用于封裝應用。FR-Scanner是一種工具，用于自動表征硅和其他尺寸達450mm的基板上的單

MC方案｜在大面積上表征薄膜厚度均勻性2019/04/09

通過白光反射光譜（WLRS）和FR映射器繪制薄膜厚度目標：在大面積上表征薄膜厚度均勻性。測量方法：采用Fr-Basic與Fr-Mapper相結合的方法，在大面積的預定點上快速、準確地測量薄膜厚度。當樣品固定在一個Fr-Mapper上時，所有的測量都用一個Fr-Basic進行調節，使其在540-1000納米的光譜范圍內工作。反射探頭的有效光斑直徑為0.5毫米。樣品是涂有SiO2（熱的或TEOS）和Si3N4（LPCVD）/SiO2（熱的）4英寸硅晶片。在參考測量中，使用了高反射鍍鋁鏡（NT01-9

MC方案｜鈣鈦礦薄膜厚度的測量2019/04/09

鈣鈦礦廣泛用于太陽能電池的開發。由于這些類型的太陽能電池具有良好的光伏性能，因此對它們進行了系統的研究。鈣鈦礦薄膜的厚度和形態是影響太陽能電池性能的重要因素。特別地，人們發現，當鈣鈦礦的厚度小于400nm時，鈣鈦礦太陽能電池的效率很大程度上取決于薄膜厚度；而當鈣鈦礦的厚度大于400nm時，效率則很大程度上取決于鈣鈦礦層的薄膜形態。在本應用說明中，我們使用FR工具測量鈣鈦礦薄膜的厚度。測量方法：用于表征的樣品是兩種不同厚度的CH3NH3PbBr3鈣鈦礦薄膜，它們位于標準ITO/SiO2/Soda-

等離子清洗機的優勢是什么?等離子清洗機的優點詳解2017/04/24

等離子清洗機是一種全新高科技技術，利用等離子體來達到常規清洗方法無法達到的效果，在多個領域中都得到了廣泛的應用。等離子清洗機的優勢是什么呢?下面小編就來具體介紹一下，希望可以幫助用戶更好的應用產品。等離子清洗機的優點一、清洗對象經等離子清洗之后是干燥的，不需要再經干燥處理即可送往下一道工序。可以提高整個工藝流水線的處理效率;二、等離子清洗使得用戶可以遠離有害溶劑對人體的傷害，同時也避免了濕法清洗中容易洗壞清洗對象的問題;三、避免使用三氯乙烷等ODS有害溶劑，這樣清洗后不會產生有害污染物，因此這種

等離子清洗機原理是什么 2017/04/24

等離子清洗機工作原理分析：電漿與材料表面可產生的反應主要有兩種，一種是靠自由基來做化學反應，另一種則是靠等離子作物理反應，以下將作更詳細的說明。（1）化學反應（Chemicalreaction）在化學反應里常用的氣體有氫氣（H2）、氧氣（O2）、甲烷（CF4）等，這些氣體在電漿內反應成高活性的自由基，其方程式為：這些自由基會進一步與材料表面作反應。其反應機理主要是利用等離子體里的自由基來與材料表面做化學反應，在壓力較高時，對自由基的產生較有利，所以若要以化學反應為主時，就必須控制較高的壓力來近進

NXQ4006光刻機在操作中應該要注意這樣要點2015/09/28

NXQ4006光刻機在操作中應該要注意以下幾點：1、進入機倉檢查或維修必須切斷電源，掛上警示牌并與中控。2、檢修或檢查時必須使用36V以下照明。3、必須經常監視機器運轉情況，如聽任何不正常聲音，應立即停機檢查，查明原因并處理完故障后，方可重新起動。4、正常運轉中，應特別注意電機和轉子的溫度變化，保證充足的油潤滑、水冷卻，超過規定值立即停機檢查。5、運行時，不準打開觀察孔，以防物料飛出傷人。6、每周應檢查一次轉子卡箍螺栓的松緊情況。7、每天開機前應檢查襯板螺絲是否松動并緊固。

使用850壓實密度儀過程中哪些細節不容忽視2015/08/24

使用850壓實密度儀可以給不少的工業加工企業帶來效益,但是往往這樣的傳送帶在應用期間,很多細節上的問題是不容遺忘的,通過850壓實密度儀本身可以更好地帶動產品的發展和應用,一定程度上很難形成效果上的增進和發展。850壓實密度儀在使用過程過程中哪些細節不容忽視1、850壓實密度儀使用前應檢查抽氣泵內潤滑油是否在油標上下線的范圍內，如油量不足或油變質應及時加油或換油。2、850壓實密度儀內放入試樣后，水量zui高水位應低于桶口以下3cm。以防水吸入抽氣泵造成潤滑油變質。3、開啟抽氣泵后如壓力表無壓力