GL300 MLA全自動紫外納米壓印光刻設(shè)備
2025-04-17
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GL300 MLA是天仁微納新型專門為晶圓級光學(xué)加工（WLO-Wafer Level Optics）開發(fā)的全自動紫外納米壓印光刻設(shè)備，可在200/300 mm基底面積上平行復(fù)制生產(chǎn)聚合物光學(xué)器件。
GL300 MLA全自動紫外納米壓印光刻設(shè)備支持cassette to cassette自動上下片、自動復(fù)制柔性復(fù)合工作模具，工作模具自動更換。整個工藝過程在密閉潔凈環(huán)境中進(jìn)行，以保證壓印結(jié)果質(zhì)量。內(nèi)置的高精度自動點(diǎn)膠系統(tǒng)、APC（主動模具基底平行控制）技術(shù)、以及自動脫模功能都保證了大面積晶圓級光學(xué)生產(chǎn)的精度、均勻性（TTV）與良率。同時，自動模具基底對位系統(tǒng)還可實(shí)現(xiàn)晶圓之間對位堆疊工藝（WLS-Wafer Level Stacking）。
GL300 MLA全自動紫外納米壓印光刻設(shè)備適用于DOE、勻光片（Diffuser）、微透鏡陣列、菲涅爾透鏡等產(chǎn)品的研發(fā)和量產(chǎn)。
主要功能
● 全自動200/300mm晶圓級光學(xué)加工（WLO）生產(chǎn)線
● APC主動模具基底平行控制技術(shù)，確保大面積晶圓壓印TTV均勻性
● Cassette to cassette自動上下片，光學(xué)巡邊預(yù)對位
● 設(shè)備內(nèi)自動復(fù)制柔性復(fù)合工作模具，同時支持自動更換工作模具，適合連續(xù)生產(chǎn)
● 內(nèi)置高精度自動點(diǎn)膠功能
● 自動對位、自動壓印、自動曝光固化、自動脫模，工藝過程在密閉潔凈環(huán)境中自動進(jìn)行，以保證壓印質(zhì)量
● 標(biāo)配高功率紫外LED面光源（365nm，光強(qiáng)>1000mW/cm2 ），水冷冷卻，特殊功率以及特殊、混合波長光源可訂制，支持各種商用納米壓印材料
● 隨機(jī)提供全套納米壓印工藝與材料，包括標(biāo)準(zhǔn)示范WLO等工藝流程，幫助客戶零門檻達(dá)到國際的納米壓印水平
設(shè)備照片
相關(guān)參數(shù)
| 兼容基底尺寸 | 200mm、300mm 特殊尺寸可定制 |
| 支持基底材料 | 硅片、玻璃、石英、塑料、金屬等 |
| 上下片方式 | Cassette to cassette全自動上下片 |
| 晶圓預(yù)對位 | 光學(xué)巡邊預(yù)對位 |
| 納米壓印技術(shù) | APC主動平行控制技術(shù)，適合大面積WLO、WLS等工藝 |
| 壓印精度 | 可小于10納米* |
| 結(jié)構(gòu)深寬比 | 優(yōu)于10比1* |
| TTV控制 | 微米級精度（200 /300 mm晶圓） |
| 紫外固化光源 | 紫外LED（365nm）面光源，光強(qiáng)>1000mW/cm2，水冷冷卻（2000mW/cm2類型光源可選配） |
| 設(shè)備內(nèi)部環(huán)境控制 | 標(biāo)配，外部環(huán)境Class 100，內(nèi)部環(huán)境可達(dá)Class 10* |
| 自動壓印 | 支持 |
| 自動脫模 | 支持 |
| 自動工作模具復(fù)制 | 支持 |
| 自動工作模具更換 | 支持 |
| 模具基底對位功能 | 支持 |
青島天仁微納科技有限責(zé)任公司
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