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公眾號：chem17
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批量式電漿輔助氣相沉積設(shè)備2025-05-30
- 所在地：
- 暫無
- 公司名稱：
- 北京瑞科中儀科技有限公司
簡介： 簡要描述：批量式電漿輔助氣相沉積設(shè)備為一種使用化學氣相沉積技術(shù)，可為沉積反應(yīng)提供能量。與傳統(tǒng)的CVD方法相比，可在較低的溫度下沉積各種薄膜且不會降低薄膜......
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FPD-PECVD 電漿輔助化學氣相沉積2025-05-30
- 所在地：
- 暫無
- 公司名稱：
- 北京瑞科中儀科技有限公司
簡介： 簡要描述：FPD-PECVD電漿輔助化學氣相沉積：隨著LCD面板和制造所需玻璃的尺寸的增加，其制造設(shè)備也變得更大，需要越來越大的設(shè)備投資。SYSKEY針對中小尺寸的需求......
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感應(yīng)耦合電漿化學氣相沉積設(shè)備2025-05-30
- 所在地：
- 暫無
- 公司名稱：
- 北京瑞科中儀科技有限公司
簡介： 簡要描述：感應(yīng)耦合電漿化學氣相沉積設(shè)備是一種使用ICP的化學氣相沉積技術(shù)，可為沉積反應(yīng)提供一些能量。與PECVD方法相比，ICP-CVD可以在較低的溫度下沉積各種薄......
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低真空化學氣相沉積設(shè)備2025-05-30
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- 暫無
- 公司名稱：
- 北京瑞科中儀科技有限公司
簡介： 簡要描述：低真空化學氣相沉積設(shè)備是一種化學氣相沉積技術(shù)，利用熱能在基板表面上引發(fā)前驅(qū)氣體的反應(yīng)。表面的反應(yīng)是形成固化材料的原因。......
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電漿輔助式化學氣相沉積設(shè)備2025-05-30
- 所在地：
- 暫無
- 公司名稱：
- 北京瑞科中儀科技有限公司
簡介： 簡要描述：電漿輔助式化學氣相沉積設(shè)備是一種使用電漿的化學氣相沉積(CVD)技術(shù)，可為沉積反應(yīng)提供一些能量。與傳統(tǒng)的CVD方法相比，PECVD可以在較低的溫度下沉積......
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化學氣相沉積2025-05-30
- 所在地：
- 暫無
- 公司名稱：
- 北京瑞科中儀科技有限公司
簡介： 簡要描述：化學氣相沉積為一種薄膜沉積方法，其中將基材暴露于一種或多種揮發(fā)性氣體中，在基板表面上反應(yīng)或分解以生成所需的薄膜沉積物。這種方法通常用于在真空......
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PECVD等離子沉積設(shè)備DEPOLAB 2002025-05-30
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- 公司名稱：
- 北京瑞科中儀科技有限公司
簡介： 簡要描述：PECVD等離子沉積設(shè)備DEPOLAB200根據(jù)其模塊化設(shè)計，PECVDDepolab200可升級為更大的真空泵組，低頻射頻源和更多的氣路。......
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帶預(yù)真空室的化學氣相沉積設(shè)備SI 500 PPD2025-05-30
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- 公司名稱：
- 北京瑞科中儀科技有限公司
簡介： 簡要描述：帶預(yù)真空室的化學氣相沉積設(shè)備SI500PPD的特色是預(yù)真空室和干泵裝置，用于無油、高產(chǎn)量和潔凈的化學氣相沉積過程。......
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