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深圳市矢量科學儀器有限公司

  • 高真空磁控濺射薄膜沉積系統

    高真空磁控濺射薄膜沉積系統可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質保護薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩定、模塊化結構，采用行業的軟件控制系統。
    型號： PVD500 所在地：沈陽市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 17:54:44 對比

  • 高真空磁控濺射薄膜沉積系統

    產品概述：高真空磁控濺射薄膜沉積系統可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質保護薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩定、模塊化結構，采用行業的軟件控制系統。設備用途...
    型號： PVD400 所在地：沈陽市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 17:50:21 對比

  • 開蓋等離子蝕刻系統

    等離子蝕刻系統 Etchlab 200 具有經濟高效的 RIE 直接加載的優點。SENTECH Etchlab 200 RIE等離子蝕刻系統代表了一系列直接加載...
    型號： Etchlab 2... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 17:43:59 對比

  • PEARD系統

    SENTECH SILAYO是一種用于光學鍍膜的等離子體增強原子層沉積（PEALD）系統，擴展了SENTECH PECVD和ALD產品組合。SENTECH SI...
    型號： SENTECH S... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 17:40:01 對比

  • PEALD 系統

    SENTECH True Remote CCP 源可在低溫下對敏感基材和層進行均勻和保形涂層。在樣品表面提供高通量的反應性氣體種類，而沒有紫外線輻射或離子轟擊。...
    型號： SI PEALD 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 17:35:37 對比

  • ICPECVD 系統

    電感耦合等離子體 （ICP） 沉積系統，SENTECH SI 500 D 用于介電膜的高密度、低離子能量和低壓等離子體沉積，以及用于鈍化層的低損傷、低溫沉積。S...
    型號： SI 500 D 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 17:31:28 對比

  • 等離子蝕刻系統

    SENTECH SI 500 ICP-RIE等離子體蝕刻系統使用具有低離子能量的電感耦合等離子體 （ICP） 源，可實現低損傷蝕刻和納米結構。
    型號： SENTECH S... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 17:27:46 對比

  • 等離子體蝕刻系統

    SI 500 C 代表了專為低溫蝕刻而設計的電感耦合等離子體 （ICP） 處理的前沿。SENTECH SI 500 C 低溫 ICP-RIE 等離子體蝕刻系統代...
    型號： SI 500 C 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 17:26:15 對比

  • 等離子增強化學氣相沉積

    PlasmaPro 100 Nano用于生長1D / 2D納米材料和異質結構的CVD / PECVD工具。 PlasmaPro 100 Nano通過在線催化劑活...
    型號： PlasmaPro... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 17:20:43 對比

  • 離子束沉積

    離子束沉積產品是因為它們能夠生產具有高質量，致密和表面光滑的沉積薄膜。離子束技術提供了一種多樣的刻蝕和沉積的方法，并可在同一設備上實現， 因而提高系統的利用率。...
    型號： Ionfab 30... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 17:17:21 對比

  • 原子層刻蝕

    ALE是一種先進的刻蝕技術，可以針對較淺的微結構進行出色的深度控制。 隨著器件微結構尺寸越來越小，要達到器件的更高性能可以通過ALE技術所具有的精度來實現。在如...
    型號： PlasmaPro... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 17:13:14 對比

  • 高精密微3D光刻機

    織雀™PL-3D Premium 是托托科技自主研發的高精密微3D光刻設備， 最高光學分辨率可達1μm，支持最大50 mm×50 mm&#...
    型號： 織雀™... 所在地：蘇州市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 17:09:44 對比

  • 無掩膜光刻機

    BIO系列是生命科學版的無掩膜紫外光刻機，無掩膜光刻機具有更高的深寬比，能滿足生命科學領域的特殊需求。它主要用于制備像微流控芯片之類的具有特定需求的樣品 。在微...
    型號： BIO L+ 所在地：蘇州市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 17:02:00 對比

  • 無掩膜光刻機

    Speed系列是高速版的無掩膜版紫外光刻機，其無掩膜光刻機配備了先進的高速空間光調制器以及高功率紫外激光器。這一系列的光刻機不僅保證了高精度和高靈活性，更在這一...
    型號： UV Litho-... 所在地：蘇州市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 16:57:54 對比

  • 無掩膜光刻機

    ACA系列是科研版的無掩膜版紫外光刻機，其基于空間光調制技術，實現了數字掩膜光刻，靈活性使其成為科學研究。設備搭載長壽命、高功率的紫外光源，設備穩定，上手簡單。...
    型號： UV Litho-... 所在地：蘇州市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 16:53:38 對比

  • 激光掩模光刻機

    ULTRA激光掩模光刻機 是專門用于成熟半導體光掩模的合格激光掩模機。半導體光掩模用于制造電子設備，包括微控制器、電源管理、LED、物聯網 （IoT） 和 ME...
    型號： ULTRA 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 16:49:59 對比

  • 無掩模直接成像儀光刻機

    PG 300 DI 是一款體積圖案發生器，專為在 i 線光刻膠中直接寫入高分辨率微結構而設計。它源自掩模制作工具，具有所有先進的 VPG 系統組件，能夠以最高的...
    型號： VPG 300 D... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 16:43:56 對比

  • 有掩膜光刻機

    VPG 200 / VPG 400 體積圖形發生器是光刻系統，專為 i-line 光刻膠的多用途掩模制造而設計。它們支持所有標準的中小型面罩尺寸，最大尺寸為 4...
    型號： VPG 200 /... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 16:39:38 對比

  • 激光光刻機

    DWL 2000 GS / DWL 4000 GS 激光光刻系統是快速、靈活的高分辨率圖形發生器。它們針對工業級灰度光刻進行了優化，設計用于集成電路、MEMS、...
    型號： DWL 2000 ... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 16:35:30 對比

  • 雙光子聚合直寫光刻機

    MPO 100雙光子聚合直寫光刻機是一種雙光子聚合 （TPP） 多用戶工具，用于微結構的 3D 光刻和 3D 顯微打印，適用于微光學、光子學、微機械學和生物醫學...
    型號： MPO 100 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 16:30:58 對比
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