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深圳市矢量科學儀器有限公司

  • 無掩模對光刻機

    無掩模對光刻機 MLA 300 提供高吞吐量、簡化的工作流程以及與制造執行系統 （MES） 的集成。該工具用于生產傳感器和傳感器 IC、MEMS 和微流體器件。...
    型號： MLA 300 所在地：德國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 16:28:32 對比

  • 無掩模直接成像儀

    VPG 300 DI 無掩模直接成像儀是一款體積圖案發生器，專為在 i 線光刻膠中直接寫入高分辨率微結構而設計。它源自掩模制作工具，具有所有先進的 VPG 系統...
    型號： VPG 300 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 16:22:48 對比

  • 激光光刻機.

    DWL 2000 GS / DWL 4000 GS 激光光刻系統是快速、靈活的高分辨率圖形發生器。它們針對工業級灰度光刻進行了優化，設計用于集成電路、MEMS、...
    型號： DWL 2000 ... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 16:18:52 對比

  • 原子層沉積（ALD）

    FlexAL系統可提供遠程等離子體原子層沉積（ALD），這為納米結構和器件的工程設計提供了一系列新的靈活性和可行性。ALD產品家族涵蓋的系列設備可以滿足學術界、...
    型號： FlexAL 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 16:13:14 對比

  • ICPCVD

    PlasmaPro 80是一種結構緊湊且使用方便的小型直開式系統，可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。 它易于放置，便于使用，且能夠確保工藝性能。直開式設計可實現...
    型號： PlasmaPro... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 16:11:24 對比

  • 投影步進電機

    AP200/300 系列光刻系統基于 Veeco 的可定制 Unity 平臺™構建，可提供覆蓋層、分辨率和側壁輪廓性能，并可實現高度自動化和具有成本...
    型號： AP200/300 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 16:07:13 對比

  • 離子束濺射 （IBD） 光學鍍膜系統

    用 Veeco 的 SPECTOR® 離子束濺射 （IBD） 光學鍍膜系統，實現更高的精度和薄膜工藝靈活性。SPECTOR IBD 光學鍍膜系統具有多...
    型號： SPECTOR 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 16:05:19 對比

  • Lancer離子束蝕刻系統

    新型 Lancer™ 離子束蝕刻 （IBE） 系統專為開發和生產智能手機、自動駕駛汽車和其他可實現連接性、功能性和移動性的“物聯網"設備中的下一代電...
    型號： 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 16:03:26 對比

  • 鍵合對準機

    鍵合對準機BA Gen4 是專為手動對準并鍵合兩個 200 毫米以下晶圓而設計的。選配掩模對準器工具后還可使用各種功能。BA Gen4 Series 用于先進封...
    型號： BA Gen4 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 16:01:36 對比

  • 無掩模光刻機

    μMLA無掩模光刻機是優良的無模板技術，建立在著名的 μPG 平臺之上，該平臺是臺式無模板系統。
    型號： μMLA 所在地：德國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 15:59:06 對比

  • 涂膠與顯影機

    ACS300 Gen3作為模塊化系統，是為滿足量產環境而專門設計的。它提供了復雜的涂膠、顯影和烘烤功能，可輕松地適應各種工藝。其的工藝控制，有效地支持廣泛的使用...
    型號： ACS300 Ge... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 15:57:03 對比

  • 掩膜自動處理系統

    掩模的完整性對高標準光刻工藝的成功起主要作用。MaskTrack Pro 掩膜自動處理系統滿足下一代光刻節點在掩模清洗、烘烤和顯影工藝方面的所有標準。它是應對 ...
    型號： MaskTrack... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 15:55:10 對比

  • 干法刻蝕裝置

    對應光學器件、MEMS制造的干法刻蝕裝置NLD-5700對應光學器件、MEMS制造的干法刻蝕裝置NLD-5700是搭載了磁性中性線（NLD- neutral l...
    型號： NLD-5700 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 15:10:19 對比

  • 干法刻蝕設備

    干法刻蝕設備 APIOS NE-950EX對應LED量產用的干法刻蝕設備?NE-950EX?相對我司以往設備實現了140%的生產力。是搭載了ICP高密度等離子源...
    型號： APIOS NE-... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 15:08:22 對比

  • NLD干法刻蝕設備

    研究開發向NLD干法刻蝕設備NLD-570研究開發向NLD干法刻蝕設備NLD-570，是搭載了愛發科磁性中性線（NLD- neutral loop discha...
    型號： NLD-570 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 15:06:19 對比

  • 高密度等離子刻蝕裝置

    高密度等離子刻蝕裝置ULHITETM NE-7800H高密度等離子客戶裝置ULHITE NE-7800H是對應刻蝕FeRAM、MRAM、ReRAM、PCRAM等...
    型號： ULHITETM ... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 15:03:51 對比

  • 刻蝕設備

    量產用刻蝕設備NE-5700/NE-7800量產用刻蝕設備NE-5700/NE-7800是可以對應單腔及多腔、重視性價比擁有擴展性的刻蝕設備。
    型號： NE-5700/N... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 15:01:45 對比

  • 濺射鍍膜設備（立式）

    濺射鍍膜設備SMD系列（立式）SMD 系列是鍍金屬膜、ITO、IGZO、誘電體膜等的枚葉式濺射鍍膜設備。僅SMD系列就有超過1000臺的豐富的采用實績，在各種各...
    型號： SMD系列 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 14:59:51 對比

  • Load-lock式濺射設備

    Load-lock式濺射設備是可對應從研究開發到小規模量產的濺射設備。這種設備通過在真空濺射室之前增加一個預真空鎖室（Load-lock chamber），實現...
    型號： CS-200 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 14:58:03 對比

  • 批次式濺射設備

    批次式濺射設備SV系列SV系列為縱型batch式濺射設備。為可以處理大量基板的回轉型設備。
    型號： SV系列 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 14:55:41 對比
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