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深圳市矢量科學儀器有限公司

  • CMP

    G&P旗下的GNP POLI-PCB系列CMP主要運用于研發，操作簡單，成本低。
    型號： GNP POLI-... 所在地：韓國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 12:21:54 對比

  • 熱蒸發薄膜沉積系統

    Kurt J. Lesker Company® NANO 36™ 熱蒸發薄膜沉積系統是我們優化的入門級沉積系統。我們的腔室設計特別適合手套...
    型號： NANO 36&t... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 12:20:13 對比

  • CMP

    GnP POLI-610專為藍寶石等復合晶圓的CMP工藝開發而設計。特別是該系統對于晶圓工藝開發具有較低的擁有成本，材料評估和生產前運行。
    型號： GNP POLI-... 所在地：韓國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 12:18:37 對比

  • 原子層沉積ALD

    用于高級研究的先進能力Veeco 是原子層沉積 （ALD） 系統供應商，為研究和工業提供全面的服務和多功能的交鑰匙系統，這些系統易于訪問、經濟實惠且精確到原子尺...
    型號： Savannah 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 12:16:29 對比

  • CMP后清洗機

    GNP CLEANER-412S型CMP后清洗機集成了兩個雙刷站，設計緊湊，占地面積小，可清洗(4“~12“)晶圓。
    型號： GNP CEANE... 所在地：韓國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 12:14:15 對比

  • CMP后清洗機

    GNP CLEANER-412R型CMP后清洗機集成了兩個雙刷站，設計緊湊，占地面積小，可清洗(4“~12“)晶圓。
    型號： GNP CLEAN... 所在地：韓國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 12:11:54 對比

  • CMP后清洗機

    GNP CLEANER-428L型CMP后清洗機集成了兩個雙刷站，設計緊湊，占地面積小，可清洗(4“~8“)晶圓。
    型號： GNP CLEAN... 所在地：韓國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 12:09:28 對比

  • 原子層沉積ALD

    Phoenix®系統經過精心設計，可在從中試生產到工業級制造的任何制造環境中實現高吞吐量和最長的正常運行時間。技術人員和研究人員依靠 Phoenix&...
    型號： Phoenix 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 12:07:53 對比

  • CMP后清洗機

    GNP CLEANER-812L型CMP后清洗機集成了兩個雙刷站，設計緊湊，占地面積小，可清洗(8“~12")晶圓。
    型號： GNP CLEAN... 所在地：韓國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 12:06:03 對比

  • 分子束外延MBE

    GEN2000® MBE 系統提供吞吐量、更長的活動周期、更小的占地面積和集群工具晶圓處理。它是 HBT 和 pHEMT 等無線通信設備大批量生產以及...
    型號： GEN2000 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 12:04:12 對比

  • CMP

    GNP POLI-762是高通用性12英寸(300mm) CMP工藝而開發，也為先進晶圓制造商和耗材供應商設計的。GNP POLI-500廣泛用于耗材供應商，襯...
    型號： GNP POLI系... 所在地：韓國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 12:01:43 對比

  • 分子束外延MBE

    Veeco 的 GEN200® MBE 系統是當今市場上具成本效益和高容量的多 4 英寸生產 MBE 系統。該系統在用于泵浦激光器、VCSEL 和 H...
    型號： GEN200 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 11:59:28 對比

  • 分子束外延MBE

    Veeco 的 GEN20™ MBE 系統是一種超靈活的工具，其設計可針對 III-V 族和新興材料進行配置，包括需要集成電子束技術的應用。該系統采...
    型號： GEN20 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 11:57:40 對比

  • 分子束外延MBE

    屢獲殊榮的新型 GENxcel™ 系統是在 GENxplor 的基礎上進行的擴展，GENxplor™ 是自 2013 年 8 月推出以來...
    型號： GENxcel R... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 11:56:06 對比

  • 分子束外延MBE

    GEN10™ MBE 系統是成熟平臺中經濟、最靈活的簇狀工具系統，允許多達三個可配置的、特定于材料的生長模塊。這使得系統利用率高，允許多個研究人員同...
    型號： GEN10 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 11:54:01 對比

  • MBE分子束外延系統

    GENxplor® R&D MBE系統獲得了化合物半導體制造的CSindustry獎，采用Veeco成熟的3英寸生長室設計，并具工藝靈活性，非常適合U...
    型號： GENxplor ... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 11:51:47 對比

  • 全自動CMP晶圓清洗一體機

    韓國G&P的全自動CMP晶圓清洗一體機是一臺可以自動拋光和清潔300毫米晶圓的機器。
    型號： GNP GPC-3... 所在地：韓國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 11:50:12 對比

  • 濕法勻膠工作臺

    Laurell的WS-1000MH系列微型濕法勻膠工作臺適用于更狹小的空間和較小的預算。這個簡單的工作站被提煉出真正的濕式工作站必須具備的精髓，以實現最大的經濟...
    型號： WS-1000MH 所在地：美國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 11:48:29 對比

  • 濕法勻膠工作臺

    Laurell的WS-1000系列濕法勻膠工作臺的配置和測試模塊建造和運輸安裝時間短。易于裝載和操作，所有物品都讓操作員方便地觸及。
    型號： WS-1000 所在地：美國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 11:46:28 對比

  • 晶圓濕法清洗工作臺

    WaferStorm平臺是先進封裝、MEMS、射頻、數據存儲和光子學市場中許多關鍵溶劑型工藝的行業選擇。有 2 個版本——手動加載 （ML） 和 3300 系列...
    型號： 3300系列 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 11:44:48 對比
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