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KLA iMicro納米壓痕儀可輕松測量硬質(zhì)涂層、薄膜和小尺寸材料等。其準(zhǔn)確、靈活，并且用戶友好，可以提供壓痕、硬度測試、劃痕和納米級萬能試驗等多種納米力學(xué)測試...

KLA Candela® 8720表面缺陷檢測系統(tǒng)先進的集成式表面和光致發(fā)光(PL)缺陷檢測系統(tǒng)可以捕獲各種關(guān)鍵襯底和外延缺陷。采用統(tǒng)計制程控制(SP...

KLA Candela® 8520表面缺陷檢測系統(tǒng)第二代集成式光致發(fā)光和表面檢測系統(tǒng)，設(shè)計用于對碳化硅和氮化鎵襯底上的外延缺陷進行高級表征。采用統(tǒng)計制...

KLA Candela® 8420表面缺陷檢測系統(tǒng)它使用多通道檢測和基于規(guī)則的缺陷分類，對不透明、半透明和透明晶圓(如砷化鎵、磷化銦、鉭酸鋰、鈮酸鋰、...

KLA Filmetrics F50薄膜厚度測量儀采用自動化R-Theta平臺，支持標(biāo)準(zhǔn)和定制化樣品夾盤，最大樣品直徑達(dá)450毫米，能高效測繪薄膜厚度。該設(shè)備適...

薄膜應(yīng)力測量系統(tǒng)：在硅片等基板上附膜時，由于基板和薄膜的物理定數(shù)有異，產(chǎn)生應(yīng)力，進而引起基板變形。由涂抹均勻的薄膜引起的變形的表現(xiàn)為基板的翹曲，而薄膜應(yīng)力測量裝...

KLA Alpha-Step®D-500探針式輪廓儀能夠測量幾納米到1200微米高的2D臺階。D-500也支持在研發(fā)和生產(chǎn)環(huán)節(jié)中對粗糙度、彎曲度和應(yīng)力...

KLA Tencor® P-17探針式輪廓儀為生產(chǎn)和研發(fā)環(huán)節(jié)提供從幾納米到一毫米的臺階高度測量功能。該系統(tǒng)支持對臺階高度、粗糙度、翹曲度和應(yīng)力進行二維...

半導(dǎo)體薄膜生長表面檢測KLA Alpha-Step® D-600探針式輪廓儀能夠測量從幾納米到 1200微米的2D和3D臺階高度。D-600 還支持2...

KLA Filmetrics F40薄膜厚度測量儀通過將顯微鏡轉(zhuǎn)變?yōu)楸∧y量工具，實現(xiàn)小至1微米光斑的厚度和折射率測量。該設(shè)備配備集成彩色攝像機，可在1秒內(nèi)完成...

KLA Filmetrics F30薄膜厚度測量儀通過實時監(jiān)控沉積過程，提供高精度、快速且非侵入式的測量解決方案，適用于多種半導(dǎo)體和電介質(zhì)材料。其主要特點包括提...

KLA Filmetrics F3-sX薄膜厚度測量儀系列，涵蓋近紅外光波長范圍980 nm、1310 nm及1550 nm，能夠測量從15納米至3毫米的薄膜厚...

KLA Filmetrics F3-CS快速厚度測量系統(tǒng)專為微小視野及樣品設(shè)計，支持快速、簡易的厚度測量，適用于聚對二甲苯和真空鍍膜層等。其具備自動校正功能，可...

KLA Filmetrics F10-RT薄膜厚度測量儀通過同時測量反射和透射光譜，實現(xiàn)真空鍍膜的快速、精確分析。該設(shè)備價格合理，具備分析、FWHM確定及顏色分...

KLA Filmetrics F10-HC薄膜厚度測量儀是一款專為測量單層和多層硬涂層設(shè)計的儀器，基于F20平臺，采用光譜反射分析技術(shù)，提供快速準(zhǔn)確的測量結(jié)果。...

KLA Filmetrics F20臺式薄膜厚度測量系統(tǒng);經(jīng)濟實惠的膜厚儀系列在幾秒鐘內(nèi)就能完成高精度的薄膜厚度測量。這些易于使用的儀器與智能軟件和一系列附件和...

KLA Filmetrics F10-ARc薄膜厚度測量儀便攜式反射儀帶有內(nèi)部光纖，利用具有長壽命、低功率光源可以測量曲面上的減反射涂層厚度。以極低的價格在幾秒...

KLA Filmetrics F10-AR薄膜厚度測量儀便攜式反射儀帶有內(nèi)部光纖，利用具有長壽命、低功率光源可以測量曲面上的減反射涂層厚度。以極低的價格在幾秒鐘...

KLA NanoFlip納米壓痕儀可在真空和氣氛條件下，準(zhǔn)確、精密地進行硬度、模量、屈服強度、剛度和其它納米力學(xué)性能的測試。無論在掃描電子顯微鏡(SEM)或是聚...

KLA iNano®納米壓痕儀使測量薄膜、涂層和小體積材料變得更簡單。準(zhǔn)確、靈活、用戶友好的儀器可以進行多樣的納米材料力學(xué)測試，包括壓痕、硬度、劃痕和...