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KLA Nano Indenter® G200X納米壓痕儀
KLA Nano Indenter® G200X納米壓痕儀是一種易于使用的納米級(jí)力學(xué)測(cè)試工具，可快速提供精確的定量分析結(jié)果。G200X系統(tǒng)可處理從硬質(zhì)...
型號(hào)：
所在地：香港特別行政區(qū)
參考價(jià)：
￥50000更新時(shí)間：2025/3/10 1:49:48
對(duì)比
KLA Nano Indenter® G200X納米壓痕儀納米壓痕儀納米劃痕儀半導(dǎo)體劃痕壓痕測(cè)量
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KLA Candela® 7100系列缺陷檢測(cè)和分類系統(tǒng)
KLA Candela® 7100系列缺陷檢測(cè)和分類系統(tǒng)為硬盤(pán)驅(qū)動(dòng)器基板和介質(zhì)提供了高級(jí)缺陷檢測(cè)和分類功能。7100系列硬盤(pán)驅(qū)動(dòng)器缺陷檢測(cè)和分類系統(tǒng)以...
型號(hào)：
所在地：香港特別行政區(qū)
參考價(jià)：
￥50000更新時(shí)間：2025/3/9 23:09:27
對(duì)比
KLA Candela® 7100缺陷檢測(cè)分類系統(tǒng)晶圓缺陷檢測(cè)和分類系統(tǒng)晶圓缺陷檢測(cè)系統(tǒng)晶圓分類系統(tǒng)半導(dǎo)體缺陷檢測(cè)和分類系統(tǒng)
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KLA Candela® 6300系列光學(xué)表面分析儀系統(tǒng)
KLA Candela® 6300系列光學(xué)表面分析儀系統(tǒng)為金屬或玻璃數(shù)據(jù)存儲(chǔ)基板和成品介質(zhì)提供了先進(jìn)的量測(cè)和檢測(cè)功能。隨著數(shù)據(jù)存儲(chǔ)制造商努力通過(guò)進(jìn)一步...
型號(hào)：
所在地：香港特別行政區(qū)
參考價(jià)：
￥50000更新時(shí)間：2025/3/9 22:57:56
對(duì)比
KLA Candela® 6300光學(xué)表面分析儀系統(tǒng)光學(xué)表面分析儀系統(tǒng)光學(xué)表面缺陷表面缺陷檢測(cè)光學(xué)檢測(cè)儀
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KLA Zeta™-388光學(xué)輪廓儀
KLA Zeta™-388光學(xué)輪廓儀提供3D量測(cè)和成像功能，與集成防震臺(tái)和晶圓操作系統(tǒng)結(jié)合，可實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)測(cè)量。該系統(tǒng)采用ZDot™ 技術(shù)...
型號(hào)：
所在地：香港特別行政區(qū)
參考價(jià)：
￥50000更新時(shí)間：2025/3/9 20:00:22
對(duì)比
KLA Zeta™-388光學(xué)輪廓儀臺(tái)階儀輪廓儀光學(xué)輪廓儀kla輪廓儀
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KLA Zeta™-300光學(xué)輪廓儀
KLA Zeta™-300光學(xué)輪廓儀可提供3D 量測(cè)和成像功能，與集成式防震臺(tái)和靈活的配置相結(jié)合，可以處理更大的樣品。該系統(tǒng)采用ZDot&trade...
型號(hào)：
所在地：香港特別行政區(qū)
參考價(jià)：
￥50000更新時(shí)間：2025/3/9 19:53:24
對(duì)比
KLA Zeta™-300光學(xué)輪廓儀Zeta™-300光學(xué)輪廓儀光學(xué)輪廓儀白光干涉儀粗糙度儀
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KLA Zeta™-Solar光學(xué)輪廓儀
全新的KLA Zeta™-Solar光學(xué)輪廓儀專為滿足優(yōu)良金屬化工藝中對(duì)于細(xì)柵線、接觸墊和主柵線的測(cè)量需求而設(shè)計(jì)。更為優(yōu)良的3D 成像技術(shù)，以及最大...
型號(hào)：
所在地：香港特別行政區(qū)
參考價(jià)：
￥50000更新時(shí)間：2025/3/7 15:39:58
對(duì)比
KLA Zeta™-Solar光學(xué)輪廓儀eta™-Solar光學(xué)輪廓儀光學(xué)輪廓儀輪廓儀白光干涉儀
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KLA Zeta™-20光學(xué)輪廓儀
KLA Zeta™-20光學(xué)輪廓儀是一個(gè)高度集成的光學(xué)輪廓顯微鏡，可在緊湊、耐用的包裝下提供3D量測(cè)和成像功能。該系統(tǒng)采用ZDot™ 技...
型號(hào)：
所在地：香港特別行政區(qū)
參考價(jià)：
￥50000更新時(shí)間：2025/3/7 15:12:45
對(duì)比
KLA Zeta™-20光學(xué)輪廓儀白光干涉儀KLA光學(xué)輪廓儀非接觸式輪廓儀
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KLA Filmetrics® Profilm3D® 光學(xué)輪廓儀
KLA Filmetrics® Profilm3D® 光學(xué)輪廓儀和 Profilm3D-200 光學(xué)輪廓儀經(jīng)濟(jì)實(shí)惠，是一套非接觸式基于白光干...
型號(hào)：
所在地：香港特別行政區(qū)
參考價(jià)：
￥50000更新時(shí)間：2025/3/7 14:50:31
對(duì)比
KLA Filmetrics® Profilm3D®光學(xué)輪廓儀光學(xué)表面分析儀Profilm3D® 光學(xué)輪廓儀白光干涉儀
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KLA HRP®-260 探針式輪廓儀
KLA HRP®-260 探針式輪廓儀是一個(gè)高分辨率、自動(dòng)化探針式輪廓儀，提供從幾納米到 300 微米的臺(tái)階高度測(cè)量功能。P-260支持臺(tái)階高度、粗糙...
型號(hào)：
所在地：香港特別行政區(qū)
參考價(jià)：
￥50000更新時(shí)間：2025/3/7 14:40:10
對(duì)比
kla hrp-260探針式輪廓儀輪廓儀臺(tái)階儀粗糙度儀
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KLA Tencor® P-170 探針式輪廓儀
KLA Tencor® P-170 探針式輪廓儀是一款自動(dòng)化輪廓儀，可為生產(chǎn)環(huán)節(jié)提供從幾納米到一毫米的臺(tái)階高度測(cè)量功能。該系統(tǒng)支持對(duì)臺(tái)階高度、粗糙度、...
型號(hào)：
所在地：香港特別行政區(qū)
參考價(jià)：
￥50000更新時(shí)間：2025/3/7 14:32:42
對(duì)比
KLATencor® P-170 探針式輪廓儀Tencor® P-170探針式輪廓儀輪廓儀
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薄膜反射儀
薄膜反射儀是一款相對(duì)較低成本和操作簡(jiǎn)單的工具。基于陣列的探測(cè)器系統(tǒng)保證快速測(cè)量，可升級(jí)到MSP（顯微分光光度計(jì)）系統(tǒng)，SRM映射系統(tǒng)，多通道系統(tǒng)，大點(diǎn)的...
型號(hào)： SR系列
所在地：國(guó)外
參考價(jià)：
面議更新時(shí)間：2024/6/17 16:55:47
對(duì)比
薄膜反射儀薄膜測(cè)試測(cè)試薄膜厚度薄膜反射測(cè)試薄膜厚度
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光學(xué)接觸角測(cè)量?jī)x
光學(xué)接觸角測(cè)量?jī)x可根據(jù)客戶的需求，針對(duì)不同的工作測(cè)試環(huán)境，提供相應(yīng)的解決方案，如有技術(shù)請(qǐng)咨詢德國(guó)韋氏納米系統(tǒng)
型號(hào)： N系列
所在地：國(guó)外
參考價(jià)：
面議更新時(shí)間：2024/6/17 16:55:07
對(duì)比
接觸角測(cè)量?jī)xcontact angle表面張力接觸角測(cè)試
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PECVD沉積
PECVD沉積可選配一個(gè)三極管（Triode）或電感耦合等離子(ICP)源。三極管源使得用戶可以創(chuàng)建高密度等離子，從而控制薄膜應(yīng)力。
型號(hào)： Minilock-...
所在地：香港特別行政區(qū)
參考價(jià)：
面議更新時(shí)間：2024/6/17 16:46:47
對(duì)比
薄膜沉積PECVD沉積
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IPA干燥多功能一體清洗系統(tǒng)
液相擴(kuò)散技術(shù)（LDT）提供了各種 基材和表面材料的干燥性能性能增強(qiáng)。這種專有的干燥工藝及其它的系統(tǒng)控制生成超純IPA氣霧劑層，在靜止的基板移動(dòng)擴(kuò)散去除水分，不留...
型號(hào)： Megasonic...
所在地：國(guó)外
參考價(jià)：
面議更新時(shí)間：2024/6/17 16:41:57
對(duì)比
兆聲清洗MegasonicIPAIPA dryer多功能清洗系統(tǒng)
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原子層沉積系統(tǒng)
AT-400原子層沉積系統(tǒng)高縱橫比沉積，具有良好的共形性;曝光控制，用于在 3D 結(jié)構(gòu)上實(shí)現(xiàn)所需的共形性；預(yù)置有經(jīng)驗(yàn)證過(guò)的 3D 和 2D 沉積的優(yōu)化配方；簡(jiǎn)單...
型號(hào)： AT-410
所在地：國(guó)外
參考價(jià)：
￥450000更新時(shí)間：2024/6/17 16:34:26
對(duì)比
原子層沉積系統(tǒng)桌面型原子層沉積臺(tái)式原子層沉積AT-400原子層沉積
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光刻曝光分析儀
45年來(lái)，OAI始終是紫外能量測(cè)試儀器領(lǐng)域的*應(yīng)用商，其儀器用于半導(dǎo)體、微機(jī)電系統(tǒng)、晶圓封裝和晶圓植球行業(yè)中光刻工藝的可靠，精確校準(zhǔn)控制。Model 659是一...
型號(hào)： Model 659
所在地：國(guó)外
參考價(jià)：
面議更新時(shí)間：2024/2/23 13:53:48
對(duì)比
光刻曝光曝光分析儀
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ActiGraph三軸加速體動(dòng)記錄儀
ActiGraph人體運(yùn)動(dòng)能耗監(jiān)測(cè)儀ActiGraph設(shè)備已經(jīng)被超過(guò)60個(gè)國(guó)家的幾百所大學(xué)和研究機(jī)構(gòu)所采用，主要的實(shí)驗(yàn)室包括U.S. National Inst...
型號(hào)： GT9X Link
所在地：香港特別行政區(qū)
參考價(jià)：
￥4000更新時(shí)間：2021/4/12 13:33:35
對(duì)比
人群活動(dòng)調(diào)查監(jiān)測(cè)睡眠研究監(jiān)測(cè)關(guān)聯(lián)性研究監(jiān)測(cè)運(yùn)動(dòng)研究監(jiān)測(cè)
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ActiGraph人體運(yùn)動(dòng)能耗監(jiān)測(cè)儀
ActiGraph人體運(yùn)動(dòng)能耗監(jiān)測(cè)儀ActiGraph設(shè)備已經(jīng)被超過(guò)60個(gè)國(guó)家的幾百所大學(xué)和研究機(jī)構(gòu)所采用，主要的實(shí)驗(yàn)室包括U.S. National Inst...
型號(hào)： wGT3X-BT
所在地：香港特別行政區(qū)
參考價(jià)：
￥3000更新時(shí)間：2021/4/12 13:19:08
對(duì)比
人群活動(dòng)調(diào)查監(jiān)測(cè)睡眠研究監(jiān)測(cè)關(guān)聯(lián)性研究監(jiān)測(cè)運(yùn)動(dòng)研究監(jiān)測(cè)
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橢偏儀
橢偏儀是一種利用偏振態(tài)的變化 后光束探測(cè)樣品反應(yīng)技術(shù)。不像反射儀，參數(shù)（PSI和Del）是在非正常的入射角得到。改變?nèi)肷浣恰？梢缘玫礁嗟臄?shù)據(jù)集，這將有助于精煉...
型號(hào)： SE系列
所在地：國(guó)外
參考價(jià)：
面議更新時(shí)間：2019/2/13 10:13:04
對(duì)比
薄膜測(cè)量橢偏儀測(cè)量薄膜分析薄膜測(cè)試薄膜
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高真空MEMS焊封機(jī)
高真空MEMS焊封機(jī)
型號(hào)： 2Z-HVZ系列
所在地：香港特別行政區(qū)
參考價(jià)：
面議更新時(shí)間：2019/1/18 14:21:04
對(duì)比
焊封機(jī)真空焊封機(jī)真空MEMS焊封機(jī)
